基板処理装置及び方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-088097
公開番号（公開出願番号）：特開平10-284379
出願日： 1997年04月07日
公開日（公表日）： 1998年10月23日
要約：

【要約】【課題】処理時間を広い範囲で任意かつ簡単に変更すること。【解決手段】投入部10では、搬送経路PAの直下に設けた複数の搬送ローラをモータM1によって回転駆動し、基板を所定の速度で搬送する。プリウエット部31でも、搬送経路PAの直下に設けた複数の搬送ローラをモータM2によって回転駆動し、基板を所定の速度で搬送する。ディップ部33でも、搬送経路PAの直下に設けた複数の搬送ローラをモータM3、M4によって回転駆動し、基板を所定の速度で搬送する。液切り部35でも、搬送経路PAの直下に設けた複数の搬送ローラをモータM5によって回転駆動し、基板を所定の速度で搬送する。第1水洗部51でも、搬送経路PAの直下に設けた複数の搬送ローラをモータM6によって回転駆動し、基板を所定の速度で搬送する。モータM1〜M6の動作は、制御部90によって制御されている。これにより、基板の位置に応じて基板の移動速度を制御することができる。

請求項（抜粋）：

基板を第1の速度で搬送する第1搬送手段を有するとともに、当該第1搬送手段によって搬送される前記基板に処理液による処理を施す処理部と、前記処理部よりも前記基板の搬送に関し下流側に設けられ、当該基板を第2の速度で搬送する第2搬送手段を有するとともに、当該第2搬送手段によって搬送される前記基板に付着した前記処理液を除去して前記基板の仕上げ処理を行う仕上げ部と、前記第1搬送手段の搬送速度である前記第1の速度を、前記第2搬送手段の搬送速度である前記第2の速度と異なる速度を含む所定範囲で設定する速度制御手段とを備える基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/30 502

FI (2件)：

H01L 21/30 569 D , G03F 7/30 502

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平2-004986
シャワー型枚葉式現像装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-043732 出願人：シャープ株式会社
基板の表面処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-183596 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

全件表示

前のページに戻る