特許

J-GLOBAL ID：200903005106622490

ビシクロヘキシルの製造方法

発明者： 古川 泰一 ,  岸田 高典 ,  山田 欣司
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (1件)： 和気 操
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-177090
公開番号（公開出願番号）：特開2009-013120
出願日： 2007年07月05日
公開日（公表日）： 2009年01月22日
要約：

【課題】193nmにおける透過性に優れる液浸露光用液体として好適なビシクロヘキシルの吸光度をより低下させることができる。【解決手段】波長193nmにおける透過率が液体の光路長1mmあたり99%以上であるビシクロヘキシルの製造方法であって、原料ビシクロヘキシルをSiO2およびAl2O3を含む酸化物に接触させる工程を含み、この原料ビシクロヘキシルと接触するSiO2およびAl2O3を含む酸化物がシリカアルミナおよびゼオライトから選ばれた少なくとも1つの酸化物であり、ゼオライトおよびシリカアルミナは、SiO2/Al2O3比が2mol/mol以上300mol/mol以下である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

波長193nmにおける透過率が液体の光路長1mmあたり99%以上であるビシクロヘキシルの製造方法であって、 原料ビシクロヘキシルをSiO2およびAl2O3を含む酸化物に接触させる工程を含むことを特徴とするビシクロヘキシルの製造方法。

IPC (3件)：

C07C 7/12 ,  H01L 21/027 ,  C07C 13/38

FI (3件)：

C07C7/12 ,  H01L21/30 515D ,  C07C13/38

Fターム (5件)：

4H006AA02 ,  4H006AB92 ,  4H006AD17 ,  5F046DA07 ,  5F046DA30

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 液浸露光用液体および液浸露光方法
  公報種別：再公表公報   出願番号：JP2005009128   出願人：JSR株式会社
• 飽和炭化水素化合物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-329265   出願人：JSR株式会社
• WO2005/119371
  
• 液浸式露光用液体、液浸式露光用液体の精製方法および液浸式露光方法
  公報種別：再公表公報   出願番号：JP2006308722   出願人：三井化学株式会社