特許

J-GLOBAL ID：200903069283866322

液浸式露光用液体、液浸式露光用液体の精製方法および液浸式露光方法

発明者： 加賀山 陽史 ,  中野 隆志 ,  玉谷 弘明 ,  中山 徳夫
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
代理人 (2件)： 速水 進治 ,  佐藤 浩司
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2006308722
公開番号（公開出願番号）：WO2006-115268
出願日： 2006年04月26日
公開日（公表日）： 2006年11月02日
要約：

飽和炭化水素化合物を少なくとも第1および第2の吸着剤に接触させて、純度99.5重量%以上の飽和炭化水素化合物を含む液浸式露光用液体を得る。

請求項（抜粋）：

飽和炭化水素化合物を少なくとも第1および第2の吸着剤に接触させて、純度99.5重量%以上の前記飽和炭化水素化合物を含む液浸式露光用液体を得る液浸式露光用液体の精製方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20

FI (3件)：

H01L21/30 515D ,  H01L21/30 516Z ,  G03F7/20 521

Fターム (7件)：

5F046AA22 ,  5F046BA03 ,  5F046CB01 ,  5F046CB26 ,  5F046CC01 ,  5F046DA07 ,  5F046DA27

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 液浸式投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-296518   出願人：キヤノン株式会社
• 液浸式露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-181261   出願人：キヤノン株式会社
• 液浸露光プロセス用レジスト材料および該レジスト材料を用いたレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-092769   出願人：東京応化工業株式会社