特許
J-GLOBAL ID：200903005211426311

データ処理装置、記録装置およびマスクパターンの製造方法

発明者：
野口 江里

野口 江里 について

, 
丸本 義朋

丸本 義朋 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (2件)： 谷 義一 ,  阿部 和夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-104268
公開番号（公開出願番号）：特開2007-306551
出願日： 2007年04月11日
公開日（公表日）： 2007年11月22日
要約：
【課題】画像の2値化に用いるドット配置パターンとそれをマスク処理するマスクパターンとの干渉を低減するとともに、そのマスクパターンによるドット配置の分散性を良好に実現する。【解決手段】マスクを製造する際、斥力ポテンシャルをドット配置パターンのプレーンとの間で計算する。すなわち、マスクにおける記録許容画素の配置を定めるとき、ドット配置パターンのプレーンにおけるドットとの間で斥力ポテンシャルを計算し、エネルギーが最も低い、最も分散する位置に記録許容画素を配置する。これにより、ドット配置パターンとマスクとの重なりにおいて記録許容画素が良好に分散されたものとなる。その結果、マスク処理して走査毎に形成されるドットは、その数が特定の走査に偏ることなく、また、良好に分散したものとなる。【選択図】図10
請求項（抜粋）：
ドット配置パターンを用いて2値化された2値データに対してマスクパターンを用いてマスク処理を行い、記録媒体の同一領域の記録を複数回の記録ヘッドの走査で行うための当該複数回の走査夫々で用いる2値データを生成するデータ処理装置であって、 前記マスクパターンにおける記録許容画素の配置と前記ドット配置パターンにおけるドット配置との論理積によって得られる論理積パターンの特性が下記(a)および(b)を満たすマスクパターンを用いて、前記ドット配置パターンを用いて2値化された2値データに対してマスク処理を行うマスク処理手段を具えたことを特徴とするデータ処理装置。 (a)低周波数領域の周波数成分が高周波数領域の周波数成分より少ない (b)低周波数領域の半分より低周波側にある領域において周波数成分のピークが存在しない。
IPC (3件)：
H04N 1/405 ,  B41J 2/01 ,  G06F 3/12
FI (5件)：
H04N1/40 104 ,  B41J3/04 101Z ,  H04N1/40 C ,  H04N1/40 B ,  G06F3/12 L
Fターム (14件)：
2C056EA04 ,  2C056EC69 ,  2C056FA10 ,  5B021AA02 ,  5B021GG00 ,  5B021LG07 ,  5B021LG08 ,  5C077LL19 ,  5C077NN07 ,  5C077NN11 ,  5C077PP33 ,  5C077RR08 ,  5C077SS02 ,  5C077TT05
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (3件)

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