特許
J-GLOBAL ID：200903005252252751

ウェーハ湿式処理装置及び方法

発明者：
スク-ビン ハン

スク-ビン ハン について


出願人/特許権者：
エルジー セミコン カンパニー リミテッド

エルジー セミコン カンパニー リミテッド について


代理人 (1件)： 笹島 富二雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-355787
公開番号（公開出願番号）：特開平10-189525
出願日： 1997年12月24日
公開日（公表日）： 1998年07月21日
要約：
【要約】【課題】 前工程における残留処理液によるウェーハの汚染を防止する。【解決手段】 ウェーハ5の湿式処理を行う内部バスと、内部バスの周囲に設置される外部バス41と、外部バス41に接続され、外部バス41に処理液を供給或いは外部バス41から処理液を排出する排出ライン41-2と、内部バスに接続され、内部バスに処理液を供給或いは内部バスから処理液を排出する排出ライン55と、を含んで構成されるウェーハ湿式処理装置において、内部バスは、内部バスの底面を形成する内部バス底面50と、内部バス底面50上に取り外し自由に設置され、内部バスの側面を形成する少なくとも1つの仕切り(図においては仕切り43,44,45)と、を含んで構成した。
請求項（抜粋）：
ウェーハの湿式処理を行う内部バスと、該内部バスの周囲に設置される外部バスと、該外部バスに接続され、外部バスに処理液を供給或いは外部バスから処理液を排出する第1のラインと、前記内部バスに接続され、内部バスに処理液を供給或いは内部バスから処理液を排出する第2のラインと、を含んで構成されるウェーハ湿式処理装置において、前記内部バスは、内部バスの底面を形成する底面部材と、該底面部材上に取り外し自由に設置され、内部バスの側面を形成する少なくとも1つの側面部材と、を含んで構成されることを特徴とするウェーハ湿式処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341 ,  H01L 21/306
FI (2件)：
H01L 21/304 341 T ,  H01L 21/306 J
引用特許：
出願人引用 (5件)
  • 特開昭60-078680
  • 下降整流式浸漬洗浄槽の整流方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-029278   出願人：株式会社ダン科学
  • 洗浄槽
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-185586   出願人：株式会社ダン科学
全件表示
審査官引用 (5件)
  • 特開昭60-078680
  • 下降整流式浸漬洗浄槽の整流方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-029278   出願人：株式会社ダン科学
  • 洗浄槽
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-185586   出願人：株式会社ダン科学
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM