特許
J-GLOBAL ID：200903005281961613
アルミナ膜研磨用組成物およびそれを用いる化学機械研磨方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
星宮 勝美
, 渡邊 和浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-136414
公開番号（公開出願番号）：特開2008-290169
出願日： 2007年05月23日
公開日（公表日）： 2008年12月04日
要約：
【課題】従来のCMP工程と比較して工程数の増加を伴わずに、アルミナ膜の段差を極力少ない研磨量で効率良く解消する。【解決手段】凹凸面を有するアルミナ膜を備えた研磨対象物を化学機械研磨して凹凸面を平坦化させるために用いられるアルミナ膜研磨用組成物は、アルミナ砥粒と、アルミナ膜およびアルミナ砥粒の表面に保護膜を形成する保護膜形成剤と、を含有する。保護膜形成剤は、分子中に1個以上のOH基またはCOOH基を有するモノマーを重合させて得られた重量平均分子量が100以上1,000,000以下の範囲内の水溶性ポリマーである。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
凹凸面を有するアルミナ膜を備えた研磨対象物を化学機械研磨して前記凹凸面を平坦化するために用いられるアルミナ膜研磨用組成物であって、
アルミナ砥粒と、
前記アルミナ膜および前記アルミナ砥粒の表面に保護膜を形成する保護膜形成剤と、
を含有し、
前記保護膜形成剤が、分子中に1個以上のOH基またはCOOH基を有するモノマーを重合させて得られた重量平均分子量が100以上1,000,000以下の範囲内の水溶性ポリマーであることを特徴とするアルミナ膜研磨用組成物。
IPC (3件)：
B24B 37/00
, C09K 3/14
, G11B 5/31
B24B37/00 H
, C09K3/14 550D
, C09K3/14 550Z
, G11B5/31 M
3C058AA07
, 3C058CB01
, 3C058CB10
, 3C058DA02
, 3C058DA16
, 5D033DA21
, 5D033DA31
出願人引用 (2件)
審査官引用 (5件)
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