特許
J-GLOBAL ID：200903005310682060
耐熱性ネガ型フォトレジスト組成物および感光性基材、ならびにネガ型パターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-058606
公開番号（公開出願番号）：特開平7-271034
出願日： 1994年03月29日
公開日（公表日）： 1995年10月20日
要約：
【要約】【目的】 耐熱性を有するポリイミド骨格を形成しうる樹脂成分からなり、しかも感度や解像度に優れた耐熱性ネガ型フォトレジスト組成物、およびこの組成物を用いてなる感光性基材ならびにパターン形成方法を提供する。【構成】 特定構造を有するポリイミド前駆体からなる樹脂成分に、特定の構造を有し、活性光線の照射によって塩基性を呈する4-(2’-ニトロフェニル)-1-アルキル(又はアルコキシル)-4-ジヒドロピリジン類を感光性化合物として含有させることによって、活性光線の照射によって耐熱性の良好なネガ型のパターンとなるフォトレジスト組成物を得ることができる。
請求項（抜粋）：
下記式(化1)にて示される構造単位を有する樹脂成分と、【化1】(但し、式中の矢印の結合は異性化によって置換可能な結合を示し、R1 およびR2 はそれぞれ4価および2価の芳香族または脂肪族炭化水素残基である。)下記式(化2)にて示される活性光線の照射にて塩基性を呈する化合物と、【化2】(但し、式中、R3 およびR4 は水素原子もしくは炭素数1〜3のアルキル基、R5 およびR6 は炭素数1〜4のアルキル基もしくはアルコキシル基、アニリノ基、トルイジノ基、ベンジルオキシ基、アミノ基、ジアルキルアミノ基から選ばれる一種、R7 は炭素数1〜3のアルキル基もしくはアルコキシル基、アルコキシアルキル基であり、X1 〜X4 はそれぞれ水素原子、フッ素原子、ニトロ基、メトキシ基、ジアルキルアミノ基、アミノ基、シアノ基、フッ素化アルキル基から選ばれる一種である。)を含有してなる耐熱性ネガ型フォトレジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/038 504
, G03F 7/004 503
, G03F 7/031
, G03F 7/38 511
, H01L 21/027
H01L 21/30 502 R
, H01L 21/30 568
