特許
J-GLOBAL ID:200903005393403958

ハイドレートの生成方法及び生成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石井 博樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-057512
公開番号(公開出願番号):特開2005-247919
出願日: 2004年03月02日
公開日(公表日): 2005年09月15日
要約:
【課題】本発明の課題は、コンパクトな装置構成で簡易かつ効率的にハイドレートを生成することができるハイドレート生成方法及びこの方法に好適なハイドレート生成装置を提供することにある。【解決手段】原料水を冷却して氷を生成する氷生成部10a,10b,10cと、ハイドレート生成温度領域内で氷の一部を融解させて水とし、この水をハイドレート形成物質と反応させてハイドレートを生成するハイドレート生成部20a,20b,20cとからなるユニット30a,30b,30cが直列に複数設けられている。【選択図】図1
請求項(抜粋):
原料水を冷却して氷を生成する氷生成工程と、ハイドレート生成温度領域内で前記氷の一部を融解させ、ハイドレート生成熱を前記氷の冷熱によって除去しながらハイドレートを生成するハイドレート生成工程とを順次繰り返すことを特徴とする、ハイドレート生成方法。
IPC (6件):
C10L3/06 ,  C07B61/00 ,  C07B63/02 ,  C07C5/00 ,  C07C7/20 ,  C07C9/04
FI (6件):
C10L3/00 A ,  C07B61/00 C ,  C07B63/02 B ,  C07C5/00 ,  C07C7/20 ,  C07C9/04
Fターム (3件):
4H006AA02 ,  4H006AA04 ,  4H006AC90
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (6件)
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