特許
J-GLOBAL ID：200903005439321978

フォトレジスト用高分子化合物の製造方法、及びフォトレジスト用樹脂組成物

発明者：
新井 隆

新井 隆 について

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首藤 真史

首藤 真史 について

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西村 政通

西村 政通 について


出願人/特許権者：
ダイセル化学工業株式会社

ダイセル化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 後藤 幸久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-003936
公開番号（公開出願番号）：特開2003-206315
出願日： 2002年01月10日
公開日（公表日）： 2003年07月22日
要約：
【要約】【課題】 グリコール系溶媒、エステル系溶媒、及びケトン系溶媒などからなるレジスト用溶剤に対して溶解性の高いフォトレジスト用高分子化合物の製造方法を提供する。【解決手段】 本発明は、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が変化するフォトレジスト用高分子化合物の製造方法であって、重合溶媒として、グリコール系溶媒、エステル系溶媒、及びケトン系溶媒から選択される1種又は2種以上の溶媒を用いて重合し、生成したポリマーを含む重合反応液を濾過処理する工程を含むフォトレジスト用高分子化合物の製造方法を提供する。前記重合溶媒は、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、メチルイソブチルケトンから選択された少なくとも1以上の溶媒が好ましい。
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリに対する溶解性が変化するフォトレジスト用高分子化合物の製造方法であって、重合溶媒として、グリコール系溶媒、エステル系溶媒、及びケトン系溶媒から選択される1種又は2種以上の溶媒を用いて重合し、生成したポリマーを含む重合反応液を濾過処理する工程を含むフォトレジスト用高分子化合物の製造方法。
IPC (4件)：
C08F 6/06 ,  C08F 20/18 ,  C08F 20/28 ,  G03F 7/039 601
FI (4件)：
C08F 6/06 ,  C08F 20/18 ,  C08F 20/28 ,  G03F 7/039 601
Fターム (19件)：
2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC53Q ,  4J100GC07 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (4件)
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