特許
J-GLOBAL ID：200903005475166903

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者：
山口 博正

山口 博正 について

, 
加藤 英人

加藤 英人 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (4件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-358960
公開番号（公開出願番号）：特開2007-163756
出願日： 2005年12月13日
公開日（公表日）： 2007年06月28日
要約：
【課題】大面積であっても良好な塗布均一性が得られ、かつレジストパターン形状に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】アルカリ可溶性樹脂、1,2-キノンジアジド化合物及び有機溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物に、界面活性剤として式(1)で示される含フッ素有機ケイ素化合物を配合してなるポジ型フォトレジスト組成物。〔Rfは炭素数5〜30の分子鎖中にエーテル結合を1個以上含むパーフルオロアルキル基、Qはポリエチレングリコールもしくはポリプロピレングリコールの単独重合鎖又はこれら両者の共重合鎖からなるポリエーテル基、Rは水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基、Xは酸素原子を除く2価の連結基、Yは2価の連結基、pは3以上の整数、nは0<n<3の正数。〕【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
アルカリ可溶性樹脂、1,2-キノンジアジド化合物及び有機溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物に、界面活性剤として下記一般式(1)で示される含フッ素有機ケイ素化合物を配合してなることを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/023 ,  G03F 7/075 ,  H01L 21/027 ,  C08G 65/48
FI (5件)：
G03F7/004 504 ,  G03F7/023 ,  G03F7/075 501 ,  H01L21/30 502R ,  C08G65/48
Fターム (9件)：
2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB52 ,  2H025CC04 ,  4J005AA03 ,  4J005BD08
引用特許：
出願人引用 (6件)
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