特許
J-GLOBAL ID：200903051553604140

吐出ノズル式塗布法用ポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターンの形成方法

発明者：
森尾 公隆

森尾 公隆 について

, 
加藤 哲也

加藤 哲也 について

, 
中島 哲矢

中島 哲矢 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-340032
公開番号（公開出願番号）：特開2005-107130
出願日： 2003年09月30日
公開日（公表日）： 2005年04月21日
要約：
【課題】吐出ノズル式によるレジスト塗布法に好適に用いることができるポジ型ホトレジスト組成物を提供する。【解決手段】吐出ノズルと基板とを相対的に移動させることによって基板の塗布面全面にポジ型ホトレジスト組成物を塗布する工程を有する吐出ノズル式塗布法に用いられるポジ型ホトレジスト組成物であって、(A)アルカリ可溶性ノボラック樹脂、(C)ナフトキノンジアジド基含有化合物、(D)有機溶剤、および(E)フッ素含有量が10〜25質量%であり、かつケイ素含有量が3〜10質量%の界面活性剤を含有してなることを特徴とする吐出ノズル式塗布法用ポジ型ホトレジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
吐出ノズルと基板とを相対的に移動させることによって基板の塗布面全面にポジ型ホトレジスト組成物を塗布する工程を有する吐出ノズル式塗布法に用いられるポジ型ホトレジスト組成物であって、(A)アルカリ可溶性ノボラック樹脂、(C)ナフトキノンジアジド基含有化合物、(D)有機溶剤、および(E)フッ素含有量が10〜25質量%であり、かつケイ素含有量が3〜10質量%の界面活性剤成分を含有してなることを特徴とする吐出ノズル式塗布法用ポジ型ホトレジスト組成物。
IPC (7件)：
G03F7/023 ,  B05D1/40 ,  G03F7/004 ,  G03F7/022 ,  G03F7/075 ,  G03F7/16 ,  H01L21/027
FI (8件)：
G03F7/023 511 ,  B05D1/40 A ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/004 504 ,  G03F7/022 ,  G03F7/075 521 ,  G03F7/16 ,  H01L21/30 502R
Fターム (28件)：
2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB29 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025EA05 ,  2H025FA01 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  4D075AC08 ,  4D075AC64 ,  4D075AC88 ,  4D075CA48 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DC24 ,  4D075EA07 ,  4D075EA45 ,  4D075EB32 ,  4D075EB52 ,  4D075EB56 ,  4D075EC07 ,  4D075EC30 ,  4D075EC35 ,  4D075EC54
引用特許：
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM