昇圧方法、調圧方法及び昇圧ガスの形成方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：池浦敏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-029976
公開番号（公開出願番号）：特開2003-232496
出願日： 2002年02月06日
公開日（公表日）： 2003年08月22日
要約：

【要約】【課題】ガスハイドレートを利用して、室温程度の加熱により、ガスを昇圧する方法を提供する。【解決手段】密閉容器内において多孔性物質の空孔内に形成されたガスハイドレートを加熱し、分解させることを特徴とする昇圧方法。

請求項（抜粋）：

密閉容器内において多孔性物質の空孔内に形成されたガスハイドレートを加熱し、分解させることを特徴とする昇圧方法。

IPC (4件)：

F17C 11/00 , C10L 3/06 , F02M 21/02 , F17C 7/00

FI (4件)：

F17C 11/00 B , F02M 21/02 L , F17C 7/00 A , C10L 3/00 A

Fターム (1件)：

3E072EA10

引用特許：

審査官引用 (3件)

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