特許
J-GLOBAL ID：200903005549881006

スパッタ装置

発明者：
神谷 保志

神谷 保志 について


出願人/特許権者：
アネルバ株式会社

アネルバ株式会社 について


代理人 (1件)： 田宮 寛祉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-359630
公開番号（公開出願番号）：特開2003-160863
出願日： 2001年11月26日
公開日（公表日）： 2003年06月06日
要約：
【要約】【課題】 簡単な構造によって、ターゲットの大きさによらず、微細なビアホールの側壁部分にも充分に膜を堆積し、ビアホールの側壁内面から底面に渡って良好なカバレッジで堆積膜を形成できるスパッタ装置を提供する。【解決手段】 カソード19に取り付けられたターゲット22に対して成膜すべき基板16を対向させ、ターゲットをスパッタして基板に薄膜を形成するスパッタ装置であり、基板はターゲットの中心22aに対して基板中心16aが偏心するように配置され、ターゲットと基板の間に基板の表面の外側領域を覆う遮蔽板24が設けられ、基板とターゲットのうちいずれかをその中心の周りに平行状態を保って回転するように構成される。基板の平坦部の膜厚均一性が良好になり、かつ基板全面に渡ってビアホール内の内壁側面および底面の膜形状および膜厚を均一に形成することが可能となる。
請求項（抜粋）：
カソードに取り付けられたターゲットに対して成膜すべき基板を対向させ、前記ターゲットをスパッタして前記基板に薄膜を形成するスパッタ装置において、前記基板は前記ターゲットの中心に対して基板中心が偏心するように配置され、前記ターゲットと前記基板の間に前記基板の表面の外側領域を覆う遮蔽物が設けられ、前記基板と前記ターゲットのうちいずれかをその中心の周りに平行状態を保って回転するように構成されたことを特徴とするスパッタ装置。
Fターム (8件)：
4K029AA04 ,  4K029AA24 ,  4K029BA25 ,  4K029BD02 ,  4K029CA05 ,  4K029CA15 ,  4K029DA12 ,  4K029JA02
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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