特許
J-GLOBAL ID：200903005744301243

液処理装置

発明者：
坂本 和生

坂本 和生 について

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江▲崎▼ 幸彦

江▲崎▼ 幸彦 について

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大石 幸太郎

大石 幸太郎 について

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西屋 憲

西屋 憲 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-226578
公開番号（公開出願番号）：特開2003-234286
出願日： 2002年08月02日
公開日（公表日）： 2003年08月22日
要約：
【要約】【課題】 溶解生成物の生成量や現像液の濃度が局所的に異なり、エッチング速度等が変化するローディング効果と呼ばれる現象を防止し、レチクル等のフォトマスクに対する均一な現像処理が可能な液処理装置を提供すること。【解決手段】 板状のガラス基板Gと一定の隙間を空けて相対的に平行移動可能な液処理面62を有するノズルヘッド61と、液処理面62に設けられ、ガラス基板G表面に帯状に現像液を供給する現像液供給ノズル63と、液処理面62に現像液供給ノズル63と平行に設けられ、現像液供給ノズル63から供給された現像液を吸引すると共に、ガラス基板Gの表面に現像液の流れを形成する吸引ノズル64と、ノズルヘッド61の液処理面62に、吸引ノズル64を挟んで現像液供給ノズル63と対向する位置に設けられ、ガラス基板Gの表面にリンス液を供給するサイドリンスノズル65を具備する。
請求項（抜粋）：
板状の被処理基板と一定の隙間を空けて相対的に平行移動可能な液処理面を有するノズルヘッドと、上記液処理面に設けられ、上記被処理基板表面に帯状に処理液を供給する処理液供給手段と、上記液処理面に処理液供給手段と平行に設けられ、上記処理液供給手段から供給された処理液を吸引すると共に、上記被処理基板の表面に処理液の流れを形成する処理液吸引手段と、を具備することを特徴とする液処理装置。
IPC (6件)：
H01L 21/027 ,  B05C 5/02 ,  B05C 11/00 ,  B05C 11/06 ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/30 501
FI (6件)：
B05C 5/02 ,  B05C 11/00 ,  B05C 11/06 ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 564 Z
Fターム (42件)：
2H025AA18 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025DA20 ,  2H025EA04 ,  2H096AA25 ,  2H096AA28 ,  2H096CA13 ,  2H096GA22 ,  4F041AA02 ,  4F041AA06 ,  4F041AB01 ,  4F041BA05 ,  4F041BA13 ,  4F041BA35 ,  4F041BA48 ,  4F041BA54 ,  4F041BA57 ,  4F041CA02 ,  4F041CA17 ,  4F041CA23 ,  4F042AA02 ,  4F042AA07 ,  4F042AB00 ,  4F042BA08 ,  4F042BA12 ,  4F042BA13 ,  4F042BA19 ,  4F042CA01 ,  4F042CB08 ,  4F042CB24 ,  4F042DD33 ,  4F042DD39 ,  4F042DD47 ,  4F042DF07 ,  4F042DF15 ,  5F046JA01 ,  5F046JA24 ,  5F046JA27 ,  5F046LA03 ,  5F046LA13 ,  5F046LA19
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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