特許
J-GLOBAL ID：200903005775253522
真空ステーション
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-276834
公開番号（公開出願番号）：特開2005-036592
出願日： 2003年07月18日
公開日（公表日）： 2005年02月10日
要約：
【課題】 多大な費用を必要とすることのない真空ステーションを提供する。【解決手段】 汚水槽14に貯留された汚水を大気と大気圧よりも低い負圧との差圧によって真空下水管15を経て集水し、集水した汚水を下水処理施設17に向けて排出する真空ステーション10。真空ステーション10は、真空下水管15を経て汚水槽14に接続されかつ排水管16を経て下水処理施設17に接続される集水タンク19と、該タンク内に汚水槽14からの汚水を吸引するための正転動作およびタンク19内の汚水を下水処理施設17へ送出するための逆転動作が切替え可能の圧力装置21と、該圧力装置の作動を制御する制御装置22とを備える。集水タンク19は地中20に埋設されたマンホール18内に収容されている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
汚水槽に貯留された汚水を大気圧と該大気圧よりも低い負圧との差圧によって真空下水
管を経て集水し、集水した汚水を下水処理施設に向けて排出する真空ステーションであっ
て、
前記真空下水管を経て前記汚水槽に接続され、また排水管を経て前記下水処理施設に接
続される集水タンクと、該集水タンク内に前記汚水槽からの汚水を吸引するための正転動
作および前記タンク内の汚水を前記下水処理施設へ吐出するための逆転動作が切替え可能
な複数の圧力装置と、該圧力装置の作動を制御する制御装置とを備え、少なくとも前記集
水タンクは地中に埋設されたマンホール内に収容されていることを特徴とする真空ステー
ション。
IPC (3件)：
E03F5/22
, E03F1/00
, E03F3/02
E03F5/22
, E03F1/00 Z
, E03F3/02
出願人引用 (2件)
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真空式下水道システム
公報種別：公開公報
出願番号：特願2000-278076
出願人：積水化学工業株式会社, セキスイ管材テクニックス株式会社
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特許第2684526号公報(第2、3頁、図1)
審査官引用 (8件)
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引用文献：
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