特許
J-GLOBAL ID：200903005795527998

外観検査装置

発明者：
橋本 勝行

橋本 勝行 について

, 
内木 裕

内木 裕 について


出願人/特許権者：
オリンパス株式会社

オリンパス株式会社 について


代理人 (7件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  高柴 忠夫 ,  増井 裕士 ,  加藤 清志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-243645
公開番号（公開出願番号）：特開2007-059640
出願日： 2005年08月25日
公開日（公表日）： 2007年03月08日
要約：
【課題】 基板の観察を容易に行うことができる外観検査装置を提供する。【解決手段】 XYθステージ14は、半導体ウェハ1を回転可能に保持するミクロウェハ保持部13を備えている。アライメント用センサ11は、基準位置に対する半導体ウェハ1の位置ずれ量を検出する。この位置ずれ量に基づいて、半導体ウェハ1とXYθステージ14の相対的な位置関係が補正され、半導体ウェハ1が回転中心に設置される。半導体ウェハ1を回転させても、偏芯による観察対象部位の移動が発生しないので、半導体ウェハ1の観察を容易に行うことができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板を回転可能に保持するステージと、 前記基板の表面を拡大観察するための観察手段と、 基準位置に対する前記基板の位置ずれ量を検出する検出手段と、 前記基板を保持および搬送し、前記ステージとの間で前記基板の受け渡しを行う基板搬送手段と、 を備え、前記検出手段によって検出された前記位置ずれ量に基づいて、前記基板と前記ステージの相対的な位置関係を補正して、前記基板を回転中心に設置することを特徴とする外観検査装置。
IPC (3件)：
H01L 21/68 ,  G01N 21/956 ,  H01L 21/66
FI (3件)：
H01L21/68 F ,  G01N21/956 A ,  H01L21/66 J
Fターム (35件)：
2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051AB05 ,  2G051CA04 ,  2G051CA11 ,  2G051DA03 ,  2G051DA08 ,  2G051DA09 ,  4M106AA01 ,  4M106CA38 ,  4M106DJ06 ,  4M106DJ07 ,  5F031CA02 ,  5F031DA01 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA43 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031HA13 ,  5F031HA53 ,  5F031JA04 ,  5F031JA17 ,  5F031JA29 ,  5F031JA36 ,  5F031KA06 ,  5F031KA08 ,  5F031KA11 ,  5F031KA13 ,  5F031KA14 ,  5F031MA33
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 観察装置及び観察方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-038178   出願人：株式会社日立製作所
  • ウエーハ用検査装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-042398   出願人：本多エレクトロン株式会社, 東芝セラミックス株式会社
  • アライメント装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-158364   出願人：オリンパス株式会社

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