特許
J-GLOBAL ID：200903005814930421
支持機構及び支持機構を使ったマスクステージ
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長澤 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-378598
公開番号（公開出願番号）：特開2007-178819
出願日： 2005年12月28日
公開日（公表日）： 2007年07月12日
要約：
【課題】マスク等の平面板を複数の支持体により支持するに際し、自重によるたわみを補償し、平面板を平面を保った状態で支持できるようにすること。【解決手段】ステージベース11上に高さが不変の固定式の支持体1と、高さが可変の変位式の支持体2とを合計4個以上設ける。固定式の支持体1は台座の上に回転軸受けを介して取り付けられた真空吸着部を有する。変位式の支持体2は、シャフトを上下動させるエアシリンダと、シャフトの先端に回転軸受けを介して取り付けられた真空吸着部と、シャフトの動きを規制し高さを固定する手段を有する。固定式の支持体1の真空吸着部でマスク20を裏面から保持してマスク20を3点で支持するとともに、変位式支持体2のエアシリンダにマスク20の自重によるたわみをキャンセルするだけの推力を加えてマスク20を押し上げてその位置で固定し、真空吸着部でマスク20を裏面から保持する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
平面板を複数の支持体により支持する支持機構であって、
支持体を設けたベースを有し、該支持体は、
上記ベース上に取り付けられた台座の上に回転軸受けを介して取り付けられ、上記平面板を裏面から保持する真空吸着部を有する高さが不変の固定式の支持体と、
シャフトを上下動させるエアシリンダと、上記シャフトに連結された板状体と、該板状体を介して上記シャフトの位置を一定の位置に保持する保持手段と、上記シャフトの先端に回転軸受けを介して取り付けられ、上記平面板を裏面から保持する真空吸着部とから構成される高さが可変の変位式の支持体とからなり、
上記固定式の支持体と変位式の支持体の合計は4個以上である
ことを特徴とする支持機構。
IPC (3件)：
G03F 7/20
, H01L 21/027
, H01L 21/683
G03F7/20 501
, H01L21/30 503D
, H01L21/68 P
2H097BA10
, 2H097LA09
, 5F031CA07
, 5F031HA09
, 5F031HA13
, 5F031HA58
, 5F031HA59
, 5F031PA13
, 5F031PA30
, 5F046CC09
, 5F046CC11
