洗浄剤

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-044904
公開番号（公開出願番号）：特開2002-241795
出願日： 2001年02月21日
公開日（公表日）： 2002年08月28日
要約：

【要約】【課題】銅を侵さない洗浄剤を提供する。【解決手段】モルホリン類を必須成分とする洗浄剤を銅材料に用いる。

請求項（抜粋）：

モルホリン類を必須成分とする銅材料用洗浄剤。

IPC (6件)：

C11D 7/32 , C11D 7/50 , C23G 5/036 , H01L 21/304 622 , H01L 21/304 647 , H01L 21/308

FI (6件)：

C11D 7/32 , C11D 7/50 , C23G 5/036 , H01L 21/304 622 Q , H01L 21/304 647 , H01L 21/308 G

Fターム (20件)：

4H003AE02 , 4H003DA09 , 4H003DA15 , 4H003EA03 , 4H003EB20 , 4H003ED02 , 4H003ED28 , 4H003ED31 , 4H003ED32 , 4H003FA03 , 4H003FA15 , 4H003FA28 , 4K053PA06 , 4K053QA01 , 4K053RA51 , 4K053RA59 , 4K053YA03 , 5F043AA40 , 5F043BB30 , 5F043GG02

引用特許：

審査官引用 (8件)

レジスト剥離剤およびそれを用いた半導体素子の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-047635 出願人：三菱瓦斯化学株式会社
特開昭61-143331
共沸様組成物の安定化方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-320796 出願人：セントラル硝子株式会社

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