特許
J-GLOBAL ID：200903005900516174

プラズマクリーニング方法及びウエットクリーニング方法

発明者：
奥村 智洋

奥村 智洋 について

, 
甲斐 隆行

甲斐 隆行 について


出願人/特許権者：
松下電器産業株式会社

松下電器産業株式会社 について


代理人 (1件)： 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-272376
公開番号（公開出願番号）：特開2001-093889
出願日： 1999年09月27日
公開日（公表日）： 2001年04月06日
要約：
【要約】【課題】 エッチング反応生成物を効率的に除去することができるプラズマクリーニング方法及びウエットクリーニング方法を提供する。【解決手段】 真空容器1内にガス供給装置2から所定のガスを導入しつつ排気装置としてのポンプ3により排気を行い、真空容器1内を所定の圧力に保ちながら、アンテナ用高周波電源4により100MHzの高周波電力を、アンテナ5と真空容器1との間に挟まれ、かつ、アンテナ5と外形寸法がほぼ等しい誘電板6に設けられた貫通穴7を介してアンテナ5に供給し、真空容器1内にプラズマを発生させ、基板電極8上に載置された基板9に対してエッチング処理を行った後、真空容器に水蒸気を含むガスプラズマを発生させてプラズマクリーニングする事により、真空容器内壁に付着していた反応生成物を除去することができた。
請求項（抜粋）：
真空容器内にエッチングガスを供給しつつ真空容器内を排気し、真空容器内を所定の圧力に制御しながら、真空容器内の基板電極に載置された基板に対向して真空容器内に設けられたアンテナに、周波数50MHz乃至3GHzの高周波電力を印加することにより、真空容器内にプラズマを発生させ、イリジウム、ロジウム、ルテニウム、プラチナ、レニウム、ビスマス、ストロンチウム、バリウム、ジルコニウム、鉛、ニオブのうち少なくとも1つの元素を含む薄膜が形成されている基板をエッチングした後の真空容器内壁をクリーニングするプラズマクリーニング方法であって、真空容器内に水蒸気を含むガスを供給しつつ真空容器内を排気し、真空容器内を所定の圧力に制御しながら、真空容器内の基板電極に対向して真空容器内に設けられたアンテナに、高周波電力を印加することにより、真空容器内にプラズマを発生させ、真空容器内壁をクリーニングすることを特徴とするプラズマクリーニング方法。
IPC (2件)：
H01L 21/3065 ,  H05H 1/46
FI (2件)：
H05H 1/46 L ,  H01L 21/302 N
Fターム (6件)：
5F004AA15 ,  5F004BA09 ,  5F004BB11 ,  5F004BB18 ,  5F004DB08 ,  5F004EB02
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • プラズマ反応装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-027992   出願人：三菱電機株式会社
  • プラズマ処理装置の電極板洗浄方法及び装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-320842   出願人：濱田重工株式会社, 日鉄セミコンダクター株式会社
  • 半導体製造装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-100238   出願人：三菱電機株式会社, 菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社

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