特許
J-GLOBAL ID：200903005984050035
リソグラフィ用ペリクル
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-249806
公開番号（公開出願番号）：特開2003-057804
出願日： 2001年08月21日
公開日（公表日）： 2003年02月28日
要約：
【要約】【課題】 露光環境に存在する有機ガス等の汚染ガスの影響を排除し、より短波長化の進む半導体リソグラフィにも対応できるペリクルを提供する。【解決手段】 少なくともペリクルフレームにペリクル膜を接着してなるリソグラフィ用ペリクルであって、前記ペリクルフレーム2が通気口6を有するとともに、該通気口に除塵用フィルターとケミカルフィルターが設けられていることを特徴とするリソグラフィ用ペリクル1。ケミカルフィルターとしては、酸化チタンを含有するものを好適に使用できる。
請求項（抜粋）：
少なくともペリクルフレームにペリクル膜を接着してなるリソグラフィ用ペリクルであって、前記ペリクルフレームが通気口を有するとともに、該通気口に除塵用フィルターとケミカルフィルターが設けられていることを特徴とするリソグラフィ用ペリクル。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/14 K
, H01L 21/30 502 P
2H095BA01
, 2H095BC37
, 2H095BC38
