特許
J-GLOBAL ID：200903006045868153
スパイラル型膜モジュールを用いた処理システムおよびその運転方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-217941
公開番号（公開出願番号）：特開2002-028456
出願日： 2000年07月18日
公開日（公表日）： 2002年01月29日
要約：
【要約】【課題】 長期間にわたって高い透過流束を維持しつつ低コストで安定した濾過運転を行うことができるスパイラル型膜モジュールを用いた処理システムおよびその運転方法を提供することである。【解決手段】 処理システムは、スパイラル型膜モジュール100を備えたユニット151,152を並列に接続してなる。スパイラル型膜モジュール100は、背圧強度の高い分離膜を有するスパイラル型膜エレメントを備える。処理システムにおいては、ユニット152の洗浄時にユニット151の濾過運転を行い、ユニット151の洗浄時にユニット152の濾過運転を行う。ここで、洗浄時には、逆流洗浄および薬液浸漬を行う。
請求項（抜粋）：
複数のスパイラル型膜モジュールが並列に接続されてなる処理システムの運転方法であって、各スパイラル型膜モジュールは、1または複数のスパイラル型膜エレメントが原液入口を有する圧力容器内に収納されてなり、前記スパイラル型膜エレメントは、有孔中空管の外周面に袋状の分離膜が巻回されてなり、0.05MPaよりも高く0.3MPa以下の背圧で逆流洗浄が可能であり、濾過運転時に、前記各スパイラル型膜モジュールの前記圧力容器の前記原液入口を通して前記スパイラル型膜エレメントの端部から原液を供給し、前記有孔中空管の少なくとも一方の開口端から前記圧力容器の外部へ透過液を取り出し、前記複数のスパイラル型膜モジュールのうちいずれかのスパイラル型膜モジュールの洗浄時に他の少なくとも1つのスパイラル型膜モジュールを前記濾過運転することを特徴とする処理システムの運転方法。
IPC (6件)：
B01D 63/12
, B01D 63/10
, B01D 65/02
, B01D 65/02 500
, C02F 1/44
, C02F 1/44 ZAB
B01D 63/12
, B01D 63/10
, B01D 65/02
, B01D 65/02 500
, C02F 1/44 D
, C02F 1/44 ZAB C
4D006GA03
, 4D006GA06
, 4D006GA07
, 4D006HA62
, 4D006KA64
, 4D006KC02
, 4D006KC03
, 4D006KC12
, 4D006KC13
, 4D006KD15
, 4D006KD16
, 4D006KD17
, 4D006KD22
, 4D006KD24
, 4D006KD28
, 4D006KD30
, 4D006KE08Q
, 4D006KE08R
, 4D006KE22Q
, 4D006MA03
, 4D006MA06
, 4D006PB08
