特許
J-GLOBAL ID：200903006151256752
低温フリープラズマビームを発生する装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
矢野 敏雄 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-587588
公開番号（公開出願番号）：特表2002-532838
出願日： 1999年11月12日
公開日（公表日）： 2002年10月02日
要約：
【要約】少なくとも1つの高周波源(15)と、少なくとも1つのガス入り口開口(10)および少なくとも1つの出口開口(13)を備えた、電磁放射に対して透過性の中空体(11)とを有する低温フリープラズマビームを発生する装置を提案する。該高周波プラズマ源(13)は、特にマイクロ波プラズマソース又は高周波プラズマソースでありかつまず少なくとも中空体(11)の内部に低温ガスプラズマ(12)を生成し、該ガスプラズマを低温フリープラズマビーム(21)としてビーム出口開口(13)を介して中空体(11)から導かれかつ作業室(19)に入射する。作業室(19)内では、真空が支配する。フリープラズマビーム(21)は作業室(19)内でも収束したままでありかつそこで浄化のため、エッチングのため又は反応ガスを用いたプラズマコーティングのために使用することができる。
請求項（抜粋）：
少なくとも1つの高周波源(15)と、少なくとも1つのガス入り口開口(10)および少なくとも1つのビーム出口開口(13)を備えた、電磁放射に対して透過性の中空体(11)、特に管とを有する低温フリープラズマビーム(21)を発生する装置であって、高周波プラズマソース(15)が中空体(11)の内部に低温プラズマを発生する形式のものにおいて、作業室(19)が設けられており、該作業室内部に、中空体(11)内で生成した低温プラズマ(12)を低温フリープラズマビーム(21)としてビーム出口開口(13,13’)を介して中空体(11)から入射させかつそこで収束させて導くをことを特徴とする、低温フリープラズマビームを発生する装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
審査官引用 (8件)
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特開昭63-234519
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ビーム源及び微細加工方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平8-054056
出願人：株式会社荏原製作所
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特開昭63-054934
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