特許
J-GLOBAL ID：200903004488510356
リアクティブ噴射器を有する誘導プラズマトーチ
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 恵一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-500343
公開番号（公開出願番号）：特表2002-501661
出願日： 1998年05月29日
公開日（公表日）： 2002年01月15日
要約：
【要約】本発明は、外側管(10)と、中間管(14)と、試薬を噴射する少なくとも1つの中央管(20、21)及び1つの周囲被覆管(22)とを含む中央噴射器(16)とを有する誘導プラズマトーチに関する。層流を得るために適切な状態の中で、プラズマガスと同じガスが、中央管(20、21)と被覆管(22)との間の空間内に噴射される。この流れは、プラズマトーチの中央領域まで層流を維持する。被覆管は、誘電コイルの最初の巻き付け部の高さに実質的に位置する。
請求項（抜粋）：
外側管(10)と、中間管(14)と、少なくとも1つの中央リアクティブ噴射管(20、21)及び1つの周囲被覆管(22)を有する中央噴射器(16)とを含む誘導プラズマトーチにおいて、 プラズマガスと同じ性質のガスが、層流を得るに適する状態の中で前記中央管(20、21)と前記被覆管(22)との間の空間に噴射され、この流れは、前記トーチの中央プラズマ領域に達するまで層を維持し、前記被覆管は、誘導コイル(12)の最初の巻き付け部の高さに実質的に位置することを特徴とする誘導プラズマトーチ。
IPC (3件)：
H05H 1/42
, B22F 9/02
, B22F 9/14
H05H 1/42
, B22F 9/02 Z
, B22F 9/14 Z
