特許

J-GLOBAL ID：200903006210965665

プラズマトーチを使用する粒子の処理方法

発明者： ブヤルト,パトリーチェ ,  シュタードラー,ウルス・レオ ,  ママク,マーク ,  ビュニョン,フィリップ ,  ライヒ,オリバー
出願人/特許権者： チバ ホールディング インコーポレーテッド
代理人 (3件)： 津国 肇 ,  束田 幸四郎 ,  齋藤 房幸
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-515188
公開番号（公開出願番号）：特表2008-545866
出願日： 2006年05月31日
公開日（公表日）： 2008年12月18日
要約：

本発明は、プラズマトーチを使用する粒子の処理方法およびその方法で得ることができる粒子に関する。この粒子の処理方法は、(A)(a)基体および(b)基体上の少なくとも1層を含む粒子;または粒子、特に小板状の粒子を用意し、(B)その粒子をプラズマトーチへ輸送するために気体の流れに随伴させ;(C)その気体の流れの中でプラズマを発生させて、粒子の外表面を加熱し;(D)その粒子を冷却し;ついで(E)その粒子を回収する工程を含む。

請求項（抜粋）：

粒子の処理方法であって、 (A)(a)基体および (b)基体上の少なくとも1層 を含む粒子;または 粒子、特に小板状の粒子を用意し、 (B)その粒子をプラズマトーチへ輸送するために気体の流れに随伴させ; (C)その気体の流れの中でプラズマを発生させて、粒子の外表面を加熱し; (D)その粒子を冷却し;ついで (E)その粒子を回収する 工程を含む方法。

IPC (22件)：

C09C 3/04 ,  C09C 1/00 ,  C09D 7/12 ,  C09D 201/00 ,  C09D 11/00 ,  A01P 3/00 ,  A01N 59/16 ,  A01N 25/26 ,  A61K 8/25 ,  A61Q 3/02 ,  A61Q 19/00 ,  A61Q 19/10 ,  A61Q 1/06 ,  A61Q 1/02 ,  A61Q 1/12 ,  A61Q 5/02 ,  C09C 1/24 ,  C09C 1/30 ,  C09C 1/34 ,  C09C 1/36 ,  C09C 1/40 ,  C09C 1/22

FI (22件)：

C09C3/04 ,  C09C1/00 ,  C09D7/12 ,  C09D201/00 ,  C09D11/00 ,  A01P3/00 ,  A01N59/16 Z ,  A01N25/26 ,  A61K8/25 ,  A61Q3/02 ,  A61Q19/00 ,  A61Q19/10 ,  A61Q1/06 ,  A61Q1/02 ,  A61Q1/12 ,  A61Q5/02 ,  C09C1/24 ,  C09C1/30 ,  C09C1/34 ,  C09C1/36 ,  C09C1/40 ,  C09C1/22

Fターム (71件)：

4C083AA082 ,  4C083AA122 ,  4C083AB171 ,  4C083AB172 ,  4C083AB211 ,  4C083AB212 ,  4C083AB232 ,  4C083AB242 ,  4C083AB332 ,  4C083AB372 ,  4C083AB431 ,  4C083AB432 ,  4C083AC012 ,  4C083AC022 ,  4C083AC032 ,  4C083AC072 ,  4C083AC122 ,  4C083AC172 ,  4C083AC242 ,  4C083AC302 ,  4C083AC352 ,  4C083AC392 ,  4C083AC422 ,  4C083AC482 ,  4C083AC542 ,  4C083AC782 ,  4C083AC852 ,  4C083AD072 ,  4C083AD092 ,  4C083AD132 ,  4C083AD162 ,  4C083AD172 ,  4C083AD262 ,  4C083AD272 ,  4C083AD512 ,  4C083AD532 ,  4C083CC12 ,  4C083CC13 ,  4C083CC23 ,  4C083CC28 ,  4C083CC38 ,  4C083DD17 ,  4C083DD23 ,  4C083DD27 ,  4C083DD31 ,  4C083EE01 ,  4H011AA02 ,  4H011BA01 ,  4H011BB18 ,  4H011DA04 ,  4H011DF03 ,  4J037AA01 ,  4J037AA04 ,  4J037AA15 ,  4J037AA26 ,  4J037CA09 ,  4J037EE02 ,  4J037EE03 ,  4J037EE21 ,  4J037EE22 ,  4J037FF26 ,  4J038DN011 ,  4J038HA216 ,  4J038HA546 ,  4J038KA08 ,  4J038KA17 ,  4J038NA05 ,  4J039BA13 ,  4J039BA21 ,  4J039BE01 ,  4J039BE19

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 個々の粒子の表面特性を変質させるための粉末粒子処理の装置とプロセス
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平6-513027   出願人：プラズマカーブ・インコーポレイテツド
• 導電性スペーサ用金属球の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-226803   出願人：日立金属株式会社
• 炭素クラスターの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-240240   出願人：第一燃料工業株式会社
• 被覆準微粒子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-219269   出願人：日清製粉株式会社
• 被覆粒子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-219268   出願人：日清製粉株式会社