特許
J-GLOBAL ID:200903006435062826
メタルマスクの製造方法およびメタルマスク
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-009240
公開番号(公開出願番号):特開2004-218034
出願日: 2003年01月17日
公開日(公表日): 2004年08月05日
要約:
【課題】従来使われていたフレームを不要とし、張り合わせ等の製造工程を簡略化すること、従来問題となっていた貼り付け時のテンションの不均一性による寸法誤差をなくすこと、更にマスク製造時に永久変形のおきにくいメタルマスクの製造方法及びメタルマスクを提供する。【解決手段】金属板表面にフォトレジストを塗布後、露光、現像し、1次エッチングにて金属板の片面のみを部分的に薄膜化した後に、フォトレジストを剥離し、さらにフォトレジストを両面塗布し、1次エッチングにて薄膜化した金属部分内の表裏に所望のフォトマスクを用いて露光後、現像した後に、2次エッチングにより貫通孔を施す。【選択図】図4
請求項(抜粋):
金属板表面にフォトレジストを塗布後、露光、現像し、1次エッチングにて金属板の片面のみを部分的に薄膜化した後に、フォトレジストを剥離し、さらにフォトレジストを両面塗布し、1次エッチングにて薄膜化した金属部分内の表裏に所望のフォトマスクを用いて露光後、現像した後に、2次エッチングにより貫通孔を施すことを特徴とするメタルマスクの製造方法。
IPC (3件):
C23F1/02
, C23C14/04
, C23F1/00
FI (3件):
C23F1/02
, C23C14/04 A
, C23F1/00 102
Fターム (17件):
3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4K029BD00
, 4K029CA01
, 4K029HA02
, 4K029HA03
, 4K057WA11
, 4K057WB02
, 4K057WB03
, 4K057WC10
, 4K057WE02
, 4K057WE03
, 4K057WE05
, 4K057WE08
, 4K057WK01
, 4K057WN01
引用特許:
審査官引用 (5件)
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管ライニング工法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-365571
出願人:株式会社湘南合成樹脂製作所, 有限会社横島, 株式会社ゲット, 株式会社オール
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透明導電層用マスク及びカラーフィルタ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-341228
出願人:大日本印刷株式会社
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特開平4-099185
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