特許
J-GLOBAL ID:200903006470995584

セラミック積層体及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小島 清路
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-375808
公開番号(公開出願番号):特開2000-292406
出願日: 1999年12月28日
公開日(公表日): 2000年10月20日
要約:
【要約】【課題】 固体電解質層に含有されるジルコニアの粒成長及びジルコニアの相転移を効果的に抑制でき、1350〜1600°Cで安定して焼成でき、特にセンサ素子に好適に利用できるセラミック積層体及びその製造方法を提供する。【解決手段】 基体を構成することとなる未焼成体と、固体電解質層を構成することとなる未焼成層とを形成する。また、電極及びヒータを構成することとなる白金を含有するペーストを印刷し、電極パターン及びヒータパターンを形成する。更に、保護層及び補強層を構成することとなる各層を形成する。この他、所定の部位を形成し、これら全てを積層した積層体を、1350〜1600°Cにおいて一体に焼成することにより酸素センサ素子を得る。この固体電解質層は共沈法により得られ、所定の粒径及び配合量で配合されたアルミナを含有し、ジルコニア及びイットリアを含有する粉末からなる。
請求項(抜粋):
絶縁性セラミックからなる基体に対して、固体電解質層が一体に設けられたセラミック積層体であって、該固体電解質層は、ジルコニアと上記絶縁性セラミックとを含有し、該ジルコニアの平均粒径は2.5μm以下であることを特徴とするセラミック積層体。
Fターム (4件):
2G004BB04 ,  2G004BE22 ,  2G004BF05 ,  2G004BF07
引用特許:
審査官引用 (6件)
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