特許

J-GLOBAL ID：200903006631797591

階調をもつフォトマスクおよびその製造方法

発明者： 藤川 潤二 ,  島田 周 ,  吉田 雄一 ,  佐々木 志保 ,  天野 剛 ,  伊藤 公夫 ,  登山 伸人 ,  毛利 弘
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (7件)： 韮澤 弘 ,  阿部 龍吉 ,  蛭川 昌信 ,  内田 亘彦 ,  菅井 英雄 ,  青木 健二 ,  米澤 明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-252140
公開番号（公開出願番号）：特開2007-114759
出願日： 2006年09月19日
公開日（公表日）： 2007年05月10日
要約：

【課題】フォトリソグラフィ工程数を減らすための階調をもつフォトマスクにおいて、汎用のフォトマスクブランクを使用し、遮光膜の反射率が高くなるのを防止し、半透明膜パターン形成時のアライメントが容易であり、半透明膜が遮光膜パターン上にステップカバレージ良く形成できる階調をもつフォトマスクおよびその製造方法を提供する。【解決手段】透明基板上に所望のパターンを有し、パターンを形成する膜が、実質的に露光光を透過しない遮光膜114と、露光光を所望の透過率で透過する半透明膜113とからなり、透明基板101上に、遮光膜114と半透明膜113とがこの順に積層されて存在する遮光領域、半透明膜113のみが存在する半透明領域、および遮光膜114と半透明膜113のいずれも存在しない透過領域、とが混在する階調をもつフォトマスク100において、半透明膜113が、露光光に対して反射防止機能を有する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

透明基板上に所望のパターンを有し、前記パターンを形成する膜が、実質的に露光光を透過しない遮光膜と、前記露光光を所望の透過率で透過する半透明膜とからなり、前記透明基板上に、前記遮光膜と前記半透明膜とがこの順に積層されて存在する遮光領域、前記半透明膜のみが存在する半透明領域、および前記遮光膜と前記半透明膜のいずれも存在しない透過領域、とが混在する階調をもつフォトマスクにおいて、 前記半透明膜が、前記露光光に対して反射防止機能を有することを特徴とする階調をもつフォトマスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027 ,  G03F 1/14

FI (3件)：

G03F1/08 A ,  H01L21/30 502P ,  G03F1/14 F

Fターム (3件)：

2H095BB02 ,  2H095BC05 ,  2H095BC14

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特許第3415602号公報
  
• ケースレスフィルタ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-260533   出願人：株式会社重松製作所
• グレートーンマスク及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-395786   出願人：ホーヤ株式会社
• グレートーンマスク及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-386050   出願人：ホーヤ株式会社

審査官引用 (2件)

• 露光用マスク及びその製造方法、並びに液晶装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-424699   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 階調マスクの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-326003   出願人：大日本印刷株式会社