太陽放射に作用する薄膜積層を備えたグレージング

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：青木篤 , 石田敬 , 古賀哲次 , 永坂友康 , 小林良博 , 出野知
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-523420
公開番号（公開出願番号）：特表2009-502566
出願日： 2006年07月18日
公開日（公表日）： 2009年01月29日
要約：

本発明の主題は、太陽放射に作用する薄膜積層を備えた透明の基材、特にガラス基材であって、積層はマグネトロンスパッタリングによって堆積され、積層が少なくとも高い光学的指標nの潤滑膜を含み、この潤滑膜は少なくとも1つの副膜を伴い、副膜が窒化ケイ素もしくは酸窒化ケイ素もしくは炭窒化ケイ素をベースとするか、あるいはアルミニウムおよび/またはジルコニウムの窒化物もしくは酸窒化物もしくは炭窒化物あるいはそれらの化合物の2つ以上の混合物(混合されたSi-AlまたはSi-Zrの窒化物もしくは酸窒化物もしくは炭窒化物)をベースとする基材である。

請求項（抜粋）：

太陽放射に作用する薄膜積層を備えた透明の基材、特にガラス基材であって、積層はマグネトロンスパッタリングによって堆積され、前記積層が光学的指標nの高い潤滑膜を少なくとも含み、この潤滑膜は少なくとも1つの副膜を伴い、この副膜が窒化ケイ素もしくは酸窒化ケイ素もしくは炭窒化ケイ素をベースとするか、あるいはアルミニウムおよび/またはジルコニウムの窒化物もしくは酸窒化物もしくは炭窒化物あるいはそれらの化合物の2つ以上の混合物(混合されたSi-AlまたはSi-Zrの窒化物もしくは酸窒化物もしくは炭窒化物)をベースとする、ことを特徴とする基材。

IPC (2件)：

B32B 9/00 , E04B 1/74

FI (2件)：

B32B9/00 A , E04B1/74 H

Fターム (37件)：

2E001DD01 , 2E001FA04 , 2E001FA09 , 2E001GA23 , 2E001GA24 , 2E001HA11 , 2E001HF11 , 2E001LA04 , 4F100AA17B , 4F100AA20A , 4F100AA20E , 4F100AB12B , 4F100AD03A , 4F100AD03C , 4F100AD03E , 4F100AD04A , 4F100AD04C , 4F100AD05A , 4F100AD05C , 4F100AD05E , 4F100AD07C , 4F100AG00D , 4F100AK01D , 4F100BA02 , 4F100BA03 , 4F100BA04 , 4F100BA05 , 4F100EH66C , 4F100GB07 , 4F100JG05A , 4F100JK12D , 4F100JK13D , 4F100JK16B , 4F100JK16C , 4F100JN01A , 4F100JN01D , 4F100JN18E

引用特許：

審査官引用 (6件)

電波低反射特性を有する熱線遮蔽ガラス
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-092777 出願人：セントラル硝子株式会社
太陽輻射に作用する薄層の積層を有するガラス
公報種別：公表公報出願番号：特願2001-524924 出願人：サン-ゴバングラスフランス
近赤外線カットフィルターおよびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-320972 出願人：株式会社ブリヂストン

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