特許
J-GLOBAL ID:200903025700762635
近赤外線カットフィルターおよびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
江藤 聡明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-320972
公開番号(公開出願番号):特開2003-121636
出願日: 2001年10月18日
公開日(公表日): 2003年04月23日
要約:
【要約】【課題】PDPから放射される近赤外線を反射し、太陽光の近赤外線を反射する近赤外線カットフィルターをスパッタリングで高速に成膜する。【解決手段】スパッタリング法を用い、導電性炭化ケイ素と導電性酸化チタンをターゲットとして成膜を行う。
請求項(抜粋):
基板上に低屈折率膜と高屈折率膜を交互に積層されてなる近赤外線カットフィルターにおいて、低屈折率膜が、導電性炭化ケイ素をターゲットとして用い、高屈折率膜が、導電性酸化チタンをターゲットとして用いてスパッタリングにより形成されていることを特徴とする近赤外線カットフィルター。
IPC (6件):
G02B 5/26
, C23C 14/06
, G02B 1/10
, G02B 5/28
, H01J 9/20
, H01J 11/02
FI (6件):
G02B 5/26
, C23C 14/06 P
, G02B 5/28
, H01J 9/20 A
, H01J 11/02 E
, G02B 1/10 Z
Fターム (39件):
2H048FA05
, 2H048FA07
, 2H048FA09
, 2H048FA12
, 2H048FA24
, 2H048GA07
, 2H048GA09
, 2H048GA11
, 2H048GA35
, 2H048GA60
, 2H048GA61
, 2K009BB02
, 2K009BB13
, 2K009BB14
, 2K009BB24
, 2K009BB25
, 2K009CC01
, 2K009CC03
, 2K009CC42
, 2K009DD04
, 2K009EE00
, 4K029AA09
, 4K029AA11
, 4K029BA41
, 4K029BA46
, 4K029BA48
, 4K029BA54
, 4K029BA56
, 4K029BA58
, 4K029BB02
, 4K029BC08
, 4K029BD00
, 4K029CA06
, 4K029DC05
, 4K029DC16
, 4K029DC39
, 5C028AA10
, 5C040GH10
, 5C040MA26
引用特許:
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