特許
J-GLOBAL ID：200903006766726210
化学物質識別膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
榎本 一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-252104
公開番号（公開出願番号）：特開2007-061752
出願日： 2005年08月31日
公開日（公表日）： 2007年03月15日
要約：
【課題】ホスト-ゲスト包接化合物の分子鋳型の形状が崩れることがないため、対象となる化学物質の分子認識の選択性が低下せず識別感度を高めることができ、また金属酸化物前駆体の有機溶媒中における溶解性や安定性等の問題がなく品質の安定性に優れ、さらに純度の高い金属酸化物層を形成できるとともに副反応等も極めて起こり難く品質の安定性に優れる化学物質識別膜の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】基板に蒸気状態の金属酸化物前駆体を接触させ前記基板の表面に前記金属酸化物前駆体の吸着層を形成する金属酸化物前駆体吸着工程と、前記金属酸化物前駆体吸着工程で形成された前記吸着層を加水分解して金属酸化物層を形成する金属酸化物層形成工程と、前記金属酸化物層形成工程で形成された前記金属酸化物層の表面に所定の化学物質を包接するホスト化合物を固定化し受容層を形成する第1受容層形成工程と、を備える。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
基板に蒸気状態の金属酸化物前駆体を接触させ前記基板の表面に前記金属酸化物前駆体の吸着層を形成する金属酸化物前駆体吸着工程と、前記金属酸化物前駆体吸着工程で形成された前記吸着層を加水分解して金属酸化物層を形成する金属酸化物層形成工程と、前記金属酸化物層形成工程で形成された前記金属酸化物層の表面に所定の化学物質を包接するホスト化合物を固定化し受容層を形成する第1受容層形成工程と、を備えていることを特徴とする化学物質識別膜の製造方法。
IPC (4件)：
B01D 71/82
, G01N 5/02
, C01B 13/32
, B01D 71/02
B01D71/82
, G01N5/02 A
, C01B13/32
, B01D71/02
4D006GA47
, 4D006MA03
, 4D006MA06
, 4D006MB14
, 4D006MC03X
, 4D006MC71
, 4D006NA45
, 4D006NA50
, 4D006NA54
, 4D006NA64
, 4D006PB70
, 4D006PC38
, 4G042DA01
, 4G042DB11
, 4G042DB28
, 4G042DC03
, 4G042DD02
, 4G042DE09
, 4G042DE12
出願人引用 (1件)
審査官引用 (7件)
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