特許
J-GLOBAL ID：200903006890129530

コレステリック液晶性フィルムの製造方法

発明者：
西村 涼

西村 涼 について


出願人/特許権者：
日石三菱株式会社

日石三菱株式会社 について


代理人 (1件)： 森田 順之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-159741
公開番号（公開出願番号）：特開2000-347037
出願日： 1999年06月07日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 回折光自体が特定の偏光を生じるコレステリック液晶性フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】 回折素子基板の回折パターン面に重量平均分子量Mwが1000〜10万、分子量分布(Mw/Mn;Mnは数平均分子量)が5以下の高分子液晶を必須成分とするフィルム材料を展開する第1工程、展開されたフィルム材料を液晶状態においてコレステリック配向を形成・固定化してコレステリック液晶性フィルムを形成する第2工程、コレステリック液晶性フィルム面と支持基板とを積層する第3工程、及び、コレステリック液晶性フィルムから回折素子基板を除去する第4工程を含む回折能を示す領域を一部に有するコレステリック液晶性フィルムの製造方法。
請求項（抜粋）：
回折素子基板の回折パターン面にGPC(ポリスチレン換算)で測定した重量平均分子量Mwが1000〜10万、分子量分布(Mw/Mn;Mnは数平均分子量)が5以下、対数粘度が0.05〜2.0(フェノール/テトラクロロエタン(重量比60/40)混合溶媒において濃度0.5g/dl(温度30°C))、ガラス転移温度(Tg)が200°C以下、かつ液晶相から等方相への転移温度(Ti)が40°C以上である高分子液晶を必須成分とするフィルム材料を展開する第1工程、展開されたフィルム材料を液晶状態においてコレステリック配向を形成させた後、当該配向を固定化して回折素子基板上にコレステリック液晶性フィルムを形成する第2工程、コレステリック液晶性フィルム面と支持基板とを接着剤層を介して積層する第3工程、及び、コレステリック液晶性フィルムから回折素子基板を除去する第4工程を含む回折能を示す領域を一部に有するコレステリック液晶性フィルムの製造方法。
IPC (4件)：
G02B 5/30 ,  C08J 5/18 CFD ,  G02B 5/18 ,  B32B 7/02 103
FI (4件)：
G02B 5/30 ,  C08J 5/18 CFD ,  G02B 5/18 ,  B32B 7/02 103
Fターム (44件)：
2H049AA13 ,  2H049AA31 ,  2H049AA43 ,  2H049AA51 ,  2H049AA55 ,  2H049AA60 ,  2H049AA64 ,  2H049BA03 ,  2H049BA05 ,  2H049BA45 ,  4F071AA00 ,  4F071AA43 ,  4F071AA81 ,  4F071AA86 ,  4F071AA88 ,  4F071AF12 ,  4F071AF35 ,  4F071AG22 ,  4F071AG34 ,  4F071AH19 ,  4F071BA02 ,  4F071BC02 ,  4F100AJ04 ,  4F100AK01A ,  4F100AK25G ,  4F100AK41 ,  4F100AK43 ,  4F100AS00A ,  4F100AT00B ,  4F100BA02 ,  4F100CB00 ,  4F100CB04 ,  4F100EC182 ,  4F100EH012 ,  4F100EH46 ,  4F100EJ54 ,  4F100GB41 ,  4F100JA05A ,  4F100JA06A ,  4F100JA07A ,  4F100JL02 ,  4F100JL03 ,  4F100JM03A ,  4F100YY00A
引用特許：
審査官引用 (6件)
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