特許

J-GLOBAL ID：200903006934767547

3次元中空容器の薄膜成膜装置

発明者： 中島 英実 ,  武田 晃 ,  白井 励 ,  日下 直人 ,  渡邉 祐樹
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-324336
公開番号（公開出願番号）：特開2005-089814
出願日： 2003年09月17日
公開日（公表日）： 2005年04月07日
要約：

【課題】本発明は、円筒型空洞共振器を用いるプラズマCVD装置において、3次元中空容器へのマイクロ波エネルギーの供給を効率良く行い、プラズマ密度分布を均一にして、プラズマ密度の中心位置を任意に設定ができ、均一な薄膜形成が可能で、様々な該容器形状にも対応できる3次元中空容器の薄膜成膜装置を提供する。【解決手段】プラズマCVD法により薄膜を成膜する3次元中空容器の薄膜成膜装置において、前記円筒型空洞共振器1を形成してマイクロ波エネルギーを封じ込む真空チャンバー2内にマイクロ波電力を供給する手段として、エレメント長がλ/2のスリーブアンテナ16を用いて該チャンバー2内にマイクロ波を放射しプラズマを発生させることを特徴とする3次元中空容器の薄膜成膜装置である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

円筒型空洞共振器を形成し、3次元中空容器を収納する真空チャンバー内に原料ガスを導入するための原料ガス導入管を配置し、該容器内に原料ガスを導入して、該容器内面にプラズマCVD法により薄膜を成膜する3次元中空容器の薄膜成膜装置において、前記円筒型空洞共振器を形成してマイクロ波エネルギーを封じ込む真空チャンバー内にマイクロ波電力を供給する手段として、エレメント長がλ/2のスリーブアンテナを用いて該チャンバー内にマイクロ波を放射しプラズマを発生させることを特徴とする3次元中空容器の薄膜成膜装置。

IPC (3件)：

C23C16/511 ,  B65D23/02 ,  H05H1/46

FI (3件)：

C23C16/511 ,  B65D23/02 Z ,  H05H1/46 B

Fターム (16件)：

3E062AA03 ,  3E062AA09 ,  3E062AA10 ,  3E062AC02 ,  3E062AC05 ,  3E062JA01 ,  3E062JA07 ,  3E062JB24 ,  3E062JC04 ,  3E062JD01 ,  4K030CA14 ,  4K030FA01 ,  4K030JA01 ,  4K030JA18 ,  4K030KA05 ,  4K030KA30

引用特許：

出願人引用 (4件)

• マイクロ波プラズマによる容器処理用装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-615424   出願人：シデル・アクテイス・セルビス
• プラズマ強化処理におけるプラスチック製ボトルの内面処理方法および装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-514303   出願人：テトララヴァルホールディングズアンドファイナンスエス.アー.
• マイクロ波プラズマを利用したダイヤモンド成長装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-146492   出願人：ミクロ電子株式会社
• マイクロ波誘導プラズマへの原料供給方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-282245   出願人：三菱重工業株式会社