マスクパターン外観検査方法及びそのプログラム及びマスクパターン外観検査装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-187313
公開番号（公開出願番号）：特開2004-030368
出願日： 2002年06月27日
公開日（公表日）： 2004年01月29日
要約：

【課題】マスクパターンの外観検査において、予めパターン形状を確認済みの基準マスクのパターン画像を利用することで、ユーザーの製造プロセスに最適なパターン形状との比較計測による正確かつ高精度なパターンの外観検査を行うことを課題とする。【解決手段】基準マスクのクリティカル部分についてのパターン画像の登録P1と、設計データのクリティカル部分のパターンの登録p2を行い、検査対象マスクのパターン画像の取得p3によって得たパターン画像に対してクリティカルパターン部の抽出処理p4を施すことでパターンを抽出する。次に抽出されたパターンに対して輪郭抽出処理p5を行いパターン輪郭線を取得し、輪郭線のデータから比較計測p6を行ってパターンの形状差を定量的に計測し、合否判定p7することにより検査対象マスクのパターン外観検査を行う。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

フォトマスクのパターン外観検査方法において、 (p1)検査対象マスクと比較することを目的に作成した基準マスクのパターン画像を登録する画像登録ステップと、 (p2)マスクの設計データからパターンデータを画像として登録する設計データ登録ステップと、 (p3)検査対象マスクのパターン画像を取得する画像取得ステップと、 (p4)検査対象マスクのパターン画像から、登録してある基準マスク又は設計データのパターンと同一のパターンを抽出するパターン抽出ステップと、 (p5)基準マスク又は設計データのパターン画像及び検査対象マスクのパターン画像からパターン輪郭線を抽出する輪郭抽出ステップと、 (p6)両者の輪郭線を元にパターンの比較計測を行う比較計測ステップと、 (p7)比較計測の結果を元にパターン外観形状の合否を判定する判定ステップとからなることを特徴とするフォトマスク外観検査方法。

IPC (4件)：

G06T7/00 , G01N21/956 , G03F1/08 , G06T1/00

FI (4件)：

G06T7/00 300E , G01N21/956 A , G03F1/08 S , G06T1/00 305A

Fターム (21件)：

2G051AA51 , 2G051AB02 , 2G051EA08 , 2G051EA12 , 2G051ED11 , 2G051ED21 , 2H095BD28 , 5B057AA03 , 5B057CA12 , 5B057CA16 , 5B057CB17 , 5B057CG06 , 5B057DA03 , 5B057DB02 , 5B057DC16 , 5B057DC33 , 5L096BA03 , 5L096EA23 , 5L096FA06 , 5L096HA07 , 5L096KA15

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開平4-100044
マスクパターン形状計測方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-367669 出願人：凸版印刷株式会社
マスク修正方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-266112 出願人：大日本印刷株式会社

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