特許
J-GLOBAL ID:200903006956418651
ガラス基板端部のレジスト除去方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-199158
公開番号(公開出願番号):特開2008-028156
出願日: 2006年07月21日
公開日(公表日): 2008年02月07日
要約:
【課題】ガラス基板の塗布膜を選択的に溶解除去した端部にレジスト残りを発生させないガラス基板端部のレジスト除去方法を提供する。【解決手段】ガラス基板40の端部の塗布膜2を選択的に溶解除去する処理ヘッド部10を使用した端面処理方法において、1)ガラス基板の端部を処理液貯留部51に位置させる際の、処理ヘッド部内のガラス基板の経路56の上下に設けられた洗浄用純水の吐出口に2流体ノズル20A、20Bを設けて、2)ガラス基板の端部の塗布膜を選択的に溶解除去した後に、2流体ノズルを用い純水とクリーンエアーでガラス基板の端部を2流体洗浄すること。【選択図】図2
請求項(抜粋):
フォトレジストの塗布膜が設けられたガラス基板の厚みよりやや大きめのスリットを有するコの字状の治具を用い、該塗布膜を溶解する処理液を該スリット内に充填させて処理液貯留部とし、前記ガラス基板の端部を該処理液貯留部に位置させてガラス基板の端部に処理液を接触させ、該端部の塗布膜を選択的に溶解除去する処理ヘッド部を使用した端面処理方法において、
1)前記ガラス基板の端部を処理液貯留部に位置させる際の、処理ヘッド部内のガラス基板の経路の上下に設けられた洗浄用純水の吐出口に2流体ノズルを設けて、
2)前記ガラス基板の端部の塗布膜を選択的に溶解除去した後に、該2流体ノズルを用い純水とクリーンエアーで該ガラス基板の端部を2流体洗浄する、
ことを特徴とするガラス基板端部のレジスト除去方法。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L21/30 577
, B08B3/08 A
Fターム (8件):
3B201AA02
, 3B201AB01
, 3B201BB24
, 3B201BB36
, 3B201BB38
, 3B201BB93
, 3B201BB98
, 5F046JA15
引用特許: