特許
J-GLOBAL ID:200903006960992427

全方位リフレクタ装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西脇 民雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-049374
公開番号(公開出願番号):特開2009-204557
出願日: 2008年02月29日
公開日(公表日): 2009年09月10日
要約:
【課題】測量したい所望位置と基準位置との位置関係に対応可能な全方位リフレクタ装置を提供する。【解決手段】仮想軸線回りに環状に配置された複数のコーナーキューブプリズム21の入射面25が、仮想軸線に直交する方向から見た外周面に位置されたリフレクタ本体12を有する全方位リフレクタ装置10である。リフレクタ本体12には、仮想軸線と一致する軸線を有する挿通孔57が設けられ、挿通孔57には、直線状のポール11が摺動可能に挿通され、リフレクタ本体12には、リフレクタ本体12とポール11との相対的な摺動をポール11に対する任意の位置で固定可能な固定手段14が設けられている。【選択図】図1
請求項(抜粋):
仮想軸線回りに環状に配置された複数のコーナーキューブプリズムの入射面が、前記仮想軸線に直交する方向から見た外周面に位置されたリフレクタ本体を備える全方位リフレクタ装置であって、 前記リフレクタ本体には、前記仮想軸線と一致する軸線を有する挿通孔が設けられ、 該挿通孔には、直線状のポールが摺動可能に挿通され、 前記リフレクタ本体には、該リフレクタ本体と前記ポールとの相対的な摺動を該ポールに対する任意の位置で固定可能な固定手段が設けられていることを特徴とする全方位リフレクタ装置。
IPC (4件):
G01C 15/06 ,  G02B 5/04 ,  G02B 5/08 ,  G02B 5/122
FI (4件):
G01C15/06 T ,  G02B5/04 F ,  G02B5/08 Z ,  G02B5/122
Fターム (7件):
2H042CA01 ,  2H042CA17 ,  2H042DA01 ,  2H042DA12 ,  2H042DA20 ,  2H042DD01 ,  2H042DE07
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • リフレクタ装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2006-005593   出願人:株式会社ソキア
審査官引用 (8件)
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