走査露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：亀谷美明 , 金本哲男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-351649
公開番号（公開出願番号）：特開2007-152766
出願日： 2005年12月06日
公開日（公表日）： 2007年06月21日
要約：

【課題】走査露光装置において、fθレンズなどの補正光学系を備えない簡素な構成でも高品質な露光走査を行うことができるようにする。【解決手段】レーザ光源3とレーザ光源3から放射されたレーザ光20aを集束してレーザ光20bを形成する液体レンズ4とを有するビーム光源ユニット2と、レーザ光20bを偏向して露光面6に走査せしめるポリゴンスキャナ5と、レーザ光20bの光軸方向の結像位置を変更する結像位置制御部12と、レーザ光源3の発光条件を露光区間ごとに制御する露光制御手段8とを備え、結像位置制御部12によりレーザ光20bの走査位置に応じて露光面6上でのスポット径を略均一化するとともに、露光制御手段8により露光区間ごとに必要な露光量の照射を行う構成とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

光ビームを偏向して露光面上で走査させるとともに、前記露光面上の走査線に沿う一定ピッチの露光区間内に、それぞれ必要な露光量の照射を行う走査露光装置であって、光源と、該光源から放射された光から集束する光ビームを形成して、像面に結像する結像光学系とを有するビーム光源部と、該ビーム光源部により形成された光ビームを偏向して前記露光面を走査せしめる光偏向器と、該光偏向器で偏向された光ビームの光軸方向の結像位置を変更し、前記光ビームの走査位置に応じて前記露光面上での前記光ビームのスポット径を略均一化する結像位置変更手段と、前記光源の発光条件を前記露光区間ごとに変更して前記必要な露光量の照射を行う露光制御手段とを備える走査露光装置。

IPC (4件)：

B41J 2/44 , G03F 7/20 , H04N 1/113 , H04N 1/23

FI (4件)：

B41J3/00 M , G03F7/20 501 , H04N1/04 104A , H04N1/23 103Z

Fターム (37件)：

2C362AA21 , 2C362AA24 , 2C362AA28 , 2C362AA33 , 2C362AA35 , 2C362AA54 , 2C362AA63 , 2C362BA84 , 2C362BA86 , 2C362BA90 , 2C362DA03 , 2C362DA06 , 2C362DA09 , 2H097AA03 , 2H097CA17 , 2H097GB04 , 5C072AA03 , 5C072BA02 , 5C072DA02 , 5C072DA21 , 5C072DA23 , 5C072HA02 , 5C072HA13 , 5C072HB08 , 5C072HB10 , 5C072XA01 , 5C072XA05 , 5C074AA11 , 5C074BB03 , 5C074BB26 , 5C074CC22 , 5C074CC26 , 5C074DD05 , 5C074DD15 , 5C074EE04 , 5C074GG03 , 5C074HH02

引用特許：

出願人引用 (1件)

画像形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-250323 出願人：コニカ株式会社

審査官引用 (5件)

光走査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-239934 出願人：株式会社テック
特開平2-269305
特開平4-045409

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