特許
J-GLOBAL ID:200903007301165536
露光装置及びデバイスの製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
西山 恵三
, 内尾 裕一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-110211
公開番号(公開出願番号):特開2004-319682
出願日: 2003年04月15日
公開日(公表日): 2004年11月11日
要約:
【課題】従来の露光装置における反射部材の支持方法では、自重変形を効率よく抑えることができず、所望の光学性能が得られなかった。【解決手段】原版のパターンを照明する照明光学系と、前記パターンからの光を基板上に導く投影光学系とを有し、前記基板を露光する露光装置であって、前記露光装置が少なくとも1つの反射部材と、前記少なくとも1つの反射部材の自重変形量が小さくなるように、前記少なくとも1つの反射部材に対して非接触に力を加える加力手段を有する。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
原版のパターンを照明する照明光学系と、前記パターンからの光を基板上に導く投影光学系とを有し、前記基板を露光する露光装置であって、
前記露光装置が少なくとも1つの光学部材と、前記少なくとも1つの光学部材の自重変形量が小さくなるように、前記少なくとも1つの光学部材に対して非接触に力を加える加力手段を有することを特徴とする露光装置。
IPC (4件):
H01L21/027
, G02B7/00
, G02B17/00
, G03F7/20
FI (5件):
H01L21/30 517
, G02B7/00 D
, G02B17/00 Z
, G03F7/20 503
, H01L21/30 531A
Fターム (18件):
2H043AD08
, 2H043AD12
, 2H043AD21
, 2H087KA21
, 2H087NA04
, 2H087NA09
, 2H087TA02
, 2H087TA08
, 2H097CA15
, 5F046BA05
, 5F046CB03
, 5F046CB23
, 5F046CB25
, 5F046CB27
, 5F046DA12
, 5F046GA14
, 5F046GB01
, 5F046GB09
引用特許:
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