特許
J-GLOBAL ID：200903007339610851
グレーティング並びにグレーティング形成方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-224272
公開番号（公開出願番号）：特開2001-051133
出願日： 1999年08月06日
公開日（公表日）： 2001年02月23日
要約：
【要約】【課題】 光ファイバのコア部内に形成された高効率且つ長寿命なグレーティングを得ると共に、当該グレーティングを簡易且つ効率的に形成することが可能なグレーティング形成方法及び装置を提供する。【解決手段】 光ファイバ1のコア部3内にグレーティングGを形成する場合に、加速されたイオンを、グレーティングGに対応した形状を有するマスクを通過させ、更にマスクを通過したイオンをコア部3に注入し、当該コア部3内にグレーティングGを構成すべき屈折率変化部4を複数形成する。また、他の方法として、加速されたイオンにより形成されるイオンビームのビーム径を、グレーティングGを構成すべき屈折率変化部4の幅以下に収束させ、光ファイバ1の中心軸方向に照射位置を移動しつつイオンビームを断続的に照射してイオンをコア部3内に注入することにより、コア部3内に当該屈折率変化部4を複数形成する。
請求項（抜粋）：
光導波路のコア部内に形成されたグレーティングであって、加速されたイオンを前記コア部内に注入することにより当該コア部内に形成された複数の屈折率変化部により構成されていることを特徴とするグレーティング。
Fターム (4件)：
2H050AC03
, 2H050AC82
, 2H050AC84
, 2H050AD00
