特許
J-GLOBAL ID：200903007399164559
基材の表面処理装置及び表面処理方法並びに薄膜、薄膜積層体、光学フィルム及び画像表示素子
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
坂口 信昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-183628
公開番号（公開出願番号）：特開2002-371363
出願日： 2001年06月18日
公開日（公表日）： 2002年12月26日
要約：
【要約】【課題】広巾基材に対して、巾手全面に於いて、均一に表面処理を達成しつつ、且つ処理効果も高く、良好な膜質の薄膜を得ることができ、凹凸形状を有する基材表面へも、その凹凸形状に追従した均一な膜を形成できる基材の表面処理装置及び表面処理方法並びに薄膜、薄膜積層体、光学フィルム及び画像表示素子を提供することである。【解決手段】大気圧又は大気圧近傍の圧力下、対向する電極間に被処理基材を配置し、少なくとも希ガスを含むガスの存在下で、前記電極間に高周波電圧を印加することによって、放電プラズマを発生させることにより、前記基材を表面処理する表面処理方法において、前記電極の巾手方向において、少なくとも2箇所以上の給電箇所を設けることを特徴とする基材の表面処理方法である。
請求項（抜粋）：
大気圧又は大気圧近傍の圧力下、対向する電極間に被処理基材を配置し、少なくとも希ガスを含むガスの存在下で、前記電極間に高周波電圧を印加することによって、放電プラズマを発生させることにより、前記基材を表面処理する表面処理方法において、前記電極の巾手方向において、少なくとも2箇所以上の給電箇所を設けることを特徴とする基材の表面処理方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 16/505
, B01J 19/08 H
4G075AA24
, 4G075AA70
, 4G075BC04
, 4G075CA25
, 4G075CA47
, 4G075CA61
, 4G075CA62
, 4G075DA02
, 4G075EB42
, 4G075EB46
, 4G075EC21
, 4G075ED04
, 4K030AA06
, 4K030AA11
, 4K030AA16
, 4K030AA17
, 4K030BA44
, 4K030BA46
, 4K030CA07
, 4K030CA12
, 4K030FA01
, 4K030JA06
, 4K030JA18
, 4K030JA20
, 4K030KA30
, 4K030LA18
, 4K030LA24
