特許
J-GLOBAL ID：200903007529887922

パターン検査方法及びその装置

発明者：
酒井 薫

酒井 薫 について

, 
前田 俊二

前田 俊二 について

, 
西山 英利

西山 英利 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (2件)： 作田 康夫 ,  井上 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-138009
公開番号（公開出願番号）：特開2005-321237
出願日： 2004年05月07日
公開日（公表日）： 2005年11月17日
要約：
【課題】 本発明では、同一パターンとなるように形成された2つのパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置において、膜厚の違いなどから生じるパターンの明るさむらの影響を低減して、高感度なパターン検査を実現する。また、多種多様な欠陥を顕在化でき,広範囲な工程への適用が可能なパターン検査装置を実現する。 【解決手段】 上記課題を解決するために、本発明では、同一パターンとなるように形成された2つのパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置を、複数の検出系とそれに対応する複数の画像比較処理方式を備えて構成した。 また、パターン検査装置を、異なる複数の処理単位で比較画像間の画像信号の階調を変換する手段を備えて構成し、画像間の同一パターンで明るさの違いが生じている場合であっても、正しく欠陥を検出できるようにした。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
試料上の同一パターンとなるように形成された2つのパターンの対応する領域を斜方からと上方からとそれぞれの照明光量比を調整して照明して検出した画像を撮像し、該撮像して得た画像を処理して欠陥を検出するパターン検査方法であって、複数の画像処理アルゴリズムの中から前記調整した光量比に対応する画像処理アルゴリズムを選択して前記検出した画像を処理することにより欠陥を検出して分類し,該分類した結果を画面上に表示することを特徴とするパターン検査方法。
IPC (3件)：
G01N21/956 ,  G06T1/00 ,  H01L21/66
FI (3件)：
G01N21/956 A ,  G06T1/00 305A ,  H01L21/66 J
Fターム (38件)：
2G051AA51 ,  2G051AB01 ,  2G051AB02 ,  2G051BA11 ,  2G051BB05 ,  2G051BC01 ,  2G051CA03 ,  2G051CA07 ,  2G051CB05 ,  2G051DA05 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EA23 ,  2G051EC01 ,  2G051EC02 ,  2G051ED21 ,  2G051FA01 ,  4M106AA01 ,  4M106AA09 ,  4M106AA10 ,  4M106BA04 ,  4M106CA39 ,  4M106DB04 ,  4M106DB19 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CE06 ,  5B057DA03 ,  5B057DA07 ,  5B057DB02 ,  5B057DC16 ,  5B057DC19 ,  5B057DC23
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (3件)

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