特許
J-GLOBAL ID：200903007713196380

エタノールの製造方法

発明者：
上山 雅樹

上山 雅樹 について

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磯部 昭司

磯部 昭司 について

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小野寺 美奈子

小野寺 美奈子 について


出願人/特許権者：
本田技研工業株式会社

本田技研工業株式会社 について


代理人 (5件)： 佐藤 辰彦 ,  堀 進 ,  鷺 健志 ,  本間 賢一 ,  加賀谷 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-087158
公開番号（公開出願番号）：特開2009-240168
出願日： 2008年03月28日
公開日（公表日）： 2009年10月22日
要約：
【課題】反応槽内の糖の濃度の上昇を抑制して、糖化酵素の糖化活性を維持することができるエタノールの製造方法を提供する。【解決手段】セルロースを含むバイオマスを収容した反応槽に糖化酵素を加え、該セルロースを酵素糖化させる工程と、該セルロースの酵素糖化の残渣であるバイオマス残渣を除去する工程と、該酵素を除去する工程と、該反応槽にエタノール醗酵菌を加え、エタノールを得る工程と、該菌を除去する工程とを含むエタノールの製造方法において、該酵素と共に、該菌を加え、該セルロースを酵素糖化させる工程と、該酵素糖化による糖をエタノール醗酵させる工程とを同時に行い、その後、該バイオマス残渣、該菌、該酵素の順に除去を行う。前記菌は、精密濾過膜により除去され、前記酵素は、限外濾過膜により除去される。前記バイオマス残渣は、20〜200μmの孔径の不織布を用いて除去される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
セルロースを含むバイオマスを収容した反応槽に糖化酵素を加えることによって、該セルロースを酵素糖化させて糖を得る工程と、該セルロースの酵素糖化の残渣であるバイオマス残渣を除去する工程と、該糖化酵素を除去する工程と、該反応槽にエタノール醗酵菌を加えることによって、該糖をエタノール醗酵させてエタノールを得る工程と、該エタノール醗酵菌を除去する工程とを含むエタノールの製造方法において、 該糖化酵素と共に、該エタノール醗酵菌を加えることによって、該セルロースを酵素糖化させて糖を得る工程と、該糖をエタノール醗酵させる工程とを同時に行い、 その後、該バイオマス残渣を除去する工程、該エタノール醗酵菌を除去する工程、該糖化酵素を除去する工程の各工程をこの順に行うことを特徴とするエタノールの製造方法。
IPC (1件)：
C12P 7/10
FI (1件)：
C12P7/10
Fターム (7件)：
4B064AC03 ,  4B064CA05 ,  4B064CA21 ,  4B064CC01 ,  4B064CD24 ,  4B064CE06 ,  4B064DA20
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (7件)
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引用文献：
審査官引用 (4件)
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