特許
J-GLOBAL ID:200903007837473640

細孔の製造方法、並びに該製造方法により製造された細孔および該細孔を有する構造体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡辺 徳廣
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-344134
公開番号(公開出願番号):特開2001-105400
出願日: 1999年12月03日
公開日(公表日): 2001年04月17日
要約:
【要約】【課題】 直線性に優れ、規則正しく配置された細孔、該細孔を有する構造体の製造方法を提供する。【解決手段】 被加工物に粒子線を照射する工程、前記粒子線を照射した被加工物を陽極酸化することにより前記被加工物に細孔を形成する工程を有する細孔の製造方法、及び該細孔を有するナノ構造体の製造方法。
請求項(抜粋):
被加工物に粒子線を照射する工程、前記粒子線を照射した被加工物を陽極酸化することにより前記被加工物に細孔を形成する工程を有することを特徴とする細孔の製造方法。
IPC (4件):
B81C 5/00 ,  B23K 15/00 508 ,  B23K 15/08 ,  C25D 11/16 301
FI (4件):
B81C 5/00 ,  B23K 15/00 508 ,  B23K 15/08 ,  C25D 11/16 301
Fターム (8件):
4E066AA02 ,  4E066BA02 ,  4E066BA06 ,  4E066BA13 ,  4E066BB02 ,  4E066BC02 ,  4E066CA00 ,  4E066CB10
引用特許:
審査官引用 (6件)
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引用文献:
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