欠陥検査装置及び欠陥検査方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 青山正和 , 鈴木三義 , 高柴忠夫 , 増井裕士 , 加藤清志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-375251
公開番号（公開出願番号）：特開2006-184037
出願日： 2004年12月27日
公開日（公表日）： 2006年07月13日
要約：

【課題】観察すべき検査対象欠陥を簡単、かつ、迅速に抽出することができる欠陥検査装置及び欠陥検査方法を提供すること。【解決手段】 GUI画面13は、欠陥情報として欠陥表示付きウェハマップ15と、観察範囲を設定するための所望の領域を特定するための図形を選択する図形指定部16と、特定した領域内を観察範囲とするか否かを選択する検査対象欠陥設定部17と、例えば、複数の領域18、20、21を特定した際にそれらの間で重複する部分がある場合、何れか一の領域を観察範囲として選択するために領域の優先順位の付け方を選択する領域優先設定部22とを備えている。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

入力された試料の欠陥情報から所定の抽出基準に基づいて選択した欠陥の観察を行う欠陥検査装置であって、前記試料の欠陥情報を画像として表示する表示部と、該表示部に表示された前記欠陥情報に対して少なくとも一つの所望の領域を特定指示する入力部と、該入力部によって特定した領域内を観察範囲とするか否かを判断する欠陥選択部とを備えていることを特徴とする欠陥検査装置。

IPC (1件)：

G01N 21/954

FI (1件)：

G01N21/954 A

Fターム (8件)：

2G051AA51 , 2G051AB02 , 2G051CA04 , 2G051EB10 , 2G051EC01 , 2G051ED01 , 2G051ED21 , 2G051FA02

引用特許：

出願人引用 (1件)

観察作業支援システム
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-191519 出願人：株式会社日立製作所

審査官引用 (6件)

特開昭62-075336
欠陥検査方法およびその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-181056 出願人：株式会社日立製作所
観察作業支援システム
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-191519 出願人：株式会社日立製作所

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