特許

J-GLOBAL ID：200903008085826278

薄膜形成方法

発明者： 吉村 昌弘 ,  宋 丞婉 ,  渡辺 友亮
出願人/特許権者： 東京工業大学長
代理人 (1件)： 杉村 興作 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-037901
公開番号（公開出願番号）：特開2001-329395
出願日： 2001年02月15日
公開日（公表日）： 2001年11月27日
要約：

【要約】【課題】 高エネルギープロセスを必要としない新規な薄膜合成法を提供する。【解決手段】 蒸留水にLiOH・H2O(4M)を溶解させて250mLの反応溶液を作製する。次いで、この反応溶液をフロー型反応装置内に入れ、前記反応溶液を所定の温度及び所定の流量で、前記フロー型反応装置内に設置したアノード電極及びカソード電極間に流す。次いで、前記電極間に所定の電圧を印加するとともに、前記反応溶液に過酸化水素(H2O2)からなる酸化剤を滴下し、前記アノード電極上にリチウムコバルト酸化物薄膜を形成する。

請求項（抜粋）：

所定の流量で流れる反応溶液中にアノード電極とカソード電極とを入れ、前記アノード電極と前記カソード電極との間に所定の電圧を印加し、前記アノード電極上に、前記反応溶液の構成元素と前記アノード電極の構成元素とを含んでなる化合物の薄膜を合成することを特徴とする、薄膜形成方法。

IPC (4件)：

C25D 9/06 ,  C25D 9/04 ,  H01M 4/04 ,  H01M 4/58

FI (4件)：

C25D 9/06 ,  C25D 9/04 ,  H01M 4/04 A ,  H01M 4/58

Fターム (6件)：

5H050AA19 ,  5H050BA17 ,  5H050CA08 ,  5H050GA15 ,  5H050GA27 ,  5H050HA20

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 複合酸化物膜の製造方法、金属複合体、複合酸化物膜及び機能性導電材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-310630   出願人：東京工業大学長
• 複合酸化物薄膜及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-132923   出願人：株式会社村田製作所, 新技術事業団, 吉村昌弘
• リチウム系複合金属酸化物およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-348514   出願人：株式会社東北テクノアーチ
• 特公平2-055518
  
• 特公平5-002750