特許
J-GLOBAL ID：200903008325473173

硫酸化ジルコニアを含む新規な構造体およびその製造方法

発明者：
淺川 哲夫

淺川 哲夫 について

, 
土井 孝夫

土井 孝夫 について

, 
小栗 元宏

小栗 元宏 について


出願人/特許権者：
東ソー株式会社

東ソー株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-016008
公開番号（公開出願番号）：特開2006-199560
出願日： 2005年01月24日
公開日（公表日）： 2006年08月03日
要約：
【目的】固体酸触媒として有効な硫酸化ジルコニアを含む新規な構造体、およびその製造方法を提供する。【解決手段】水酸化ジルコニウムおよび/または酸化ジルコニウムを不活性担体の表層部に担持させ、硫酸化処理後に350〜800°Cで焼成を行うことにより、構造体表層部、特に構造体の外表面から1〜1000μmの深さまでの表層部に硫酸化ジルコニウムが存在し、構造体表層部を除く内部の層は硫酸化ジルコニアを含まない不活性担体である新規な構造体を提供する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
構造体表層部に硫酸化ジルコニアが存在し、構造体表層部を除く内部は実質的に硫酸化ジルコニアが存在しない不活性担体であることを特徴とする構造体。
IPC (3件)：
C01G 25/06 ,  B01J 27/053 ,  B01J 35/08
FI (3件)：
C01G25/06 ,  B01J27/053 M ,  B01J35/08 Z
Fターム (36件)：
4G048AA07 ,  4G048AB02 ,  4G048AB04 ,  4G048AB05 ,  4G048AC08 ,  4G048AD04 ,  4G048AE05 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA05A ,  4G169BA05B ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BB05A ,  4G169BB10A ,  4G169BB10B ,  4G169BC51A ,  4G169BC51B ,  4G169CB25 ,  4G169CB62 ,  4G169CB75 ,  4G169CC11 ,  4G169CC12 ,  4G169CC14 ,  4G169EA04X ,  4G169EA04Y ,  4G169EA06 ,  4G169EA11 ,  4G169EC27 ,  4G169EE01 ,  4G169FA01 ,  4G169FB13 ,  4G169FB14 ,  4G169FB30 ,  4H029CA00 ,  4H029DA00
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (7件)
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