極紫外線中で操作する機械的安定性を強化した光学デバイスおよびその様なデバイスを含んでなる平版マスク

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：吉武賢次 , 中村行孝 , 紺野昭男 , 横田修孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-098537
公開番号（公開出願番号）：特開2004-334177
出願日： 2004年03月30日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：

【課題】極紫外線中で操作する機械的安定性を強化した光学デバイスおよびその様なデバイスを含んでなる平版マスクの提供。【解決手段】 10nm〜20nmの範囲の波長を反射する光学デバイスは、交互に重なり合った第一および第二の層を含んでなる。第一層は金属または金属化合物から製造され、第二層は、a-Si-Hx、a-Si-CHx、a-Si-Cx、a-Si-OHx、a-Si-Fx、a-Si-FHx、a-Si-Nx、およびa-Si-NHxから選択された無定形ケイ素化合物から形成され、xは0.01〜0.3である。無定形ケイ素の第二層を使用することにより、光学デバイスの機械的応力を少なくとも200°Cまで安定化させることができる。本光学デバイスは、好ましくは極紫外線(EUV)中における平版マスク用のリフレクターとして使用する。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

交互に重なり合った第一および第二の層を含んでなり、前記第一層が金属または金属化合物から製造され、前記第二層が無定形ケイ素を含んでなり、10nm〜20nmの範囲の波長を反射する光学デバイスであって、前記第二層が、a-Si-Hx、a-Si-CHx、a-Si-Cx、a-Si-OHx、a-Si-Fx、a-Si-FHx、a-Si-Nx、およびa-Si-NHxから選択された無定形ケイ素化合物から形成され、xが0.01〜0.3である、光学デバイス。

IPC (4件)：

G02B5/26 , G03F1/16 , G21K1/06 , H01L21/027

FI (4件)：

G02B5/26 , G03F1/16 A , G21K1/06 C , H01L21/30 531M

Fターム (8件)：

2H048FA05 , 2H048FA07 , 2H048FA18 , 2H048FA24 , 2H095BA10 , 2H095BC11 , 5F046GB01 , 5F046GD10

引用特許：

出願人引用 (1件)

WO99/42414号パンフレット

審査官引用 (5件)

特開平2-053001
多層膜X線反射鏡
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-033249 出願人：日本電信電話株式会社
特開昭58-141528

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