特許

J-GLOBAL ID：200903008512149339

蒸気処理装置及び蒸気処理方法

発明者： 田中 幸二 ,  坂本 健 ,  上川 裕二
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-224264
公開番号（公開出願番号）：特開2000-055543
出願日： 1998年08月07日
公開日（公表日）： 2000年02月25日
要約：

【要約】【課題】 被蒸気液の量に応じて蒸気の温度を調整して生成される蒸気を用いて最適な蒸気処理を行えるようにした蒸気処理装置及び蒸気処理方法を提供すること。【解決手段】 蒸気媒体用のN2ガスと被蒸気液であるIPAとを適宜混合すると共に、加熱して蒸気を生成する蒸気生成装置25と、蒸気生成装置25により生成されたIPAガスを濾過すると共に、所定温度に加熱するメタルフィルタ26と、メタルフィルタ26により所定の温度に設定されたIPAガスを乾燥室31内に導入し、乾燥室31内に配設されたウエハWに接触して乾燥処理を施す処理手段30とを設ける。

請求項（抜粋）：

蒸気媒体用の気体と被蒸気液とを適宜混合すると共に、加熱して蒸気を生成する蒸気生成手段と、前記蒸気生成手段により生成された蒸気を濾過すると共に、所定温度に加熱する濾過・加熱手段と、前記濾過・加熱手段により所定の温度に設定された蒸気を処理室内に導入し、処理室内に配設された被処理体に接触して適宜処理を施す処理手段と、を有することを特徴とする蒸気処理装置。

IPC (3件)：

F26B 3/04 ,  B01D 46/00 ,  H01L 21/304 651

FI (3件)：

F26B 3/04 ,  B01D 46/00 Z ,  H01L 21/304 651 H

Fターム (36件)：

3L113AA01 ,  3L113AB02 ,  3L113AC01 ,  3L113AC05 ,  3L113AC15 ,  3L113AC21 ,  3L113AC28 ,  3L113AC45 ,  3L113AC46 ,  3L113AC48 ,  3L113AC49 ,  3L113AC50 ,  3L113AC54 ,  3L113AC57 ,  3L113AC60 ,  3L113AC63 ,  3L113AC67 ,  3L113AC75 ,  3L113AC76 ,  3L113AC77 ,  3L113AC79 ,  3L113AC83 ,  3L113BA34 ,  3L113CA06 ,  3L113CA08 ,  3L113CA11 ,  3L113CA20 ,  3L113DA02 ,  3L113DA18 ,  3L113DA19 ,  3L113DA24 ,  4D058JA60 ,  4D058JB03 ,  4D058JB32 ,  4D058SA20 ,  4D058UA01

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 洗浄乾燥方法および洗浄乾燥装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-273507   出願人：株式会社小松製作所
• 特開昭64-043384
  
• 蒸気乾燥装置、それを組込んだ洗浄装置および蒸気乾燥方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-003247   出願人：菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社, 三菱電機株式会社
• 乾燥処理装置及び乾燥処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-195460   出願人：東京エレクトロン株式会社