特許
J-GLOBAL ID：200903008518296066

回折光学素子およびその製造方法

発明者：
佐々木 浩紀

佐々木 浩紀 について


出願人/特許権者：
沖電気工業株式会社

沖電気工業株式会社 について


代理人 (1件)： 佐藤 幸男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-193999
公開番号（公開出願番号）：特開2001-021709
出願日： 1999年07月08日
公開日（公表日）： 2001年01月26日
要約：
【要約】【課題】 光路差関数ρ(x,y)がX軸およびY軸の両軸方向に関して相関関係を有しない所望の光学特性を示しかつ従来に比較して製造誤差の小さな、比較的単純な構成の回折光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】 光路差関数ρ(x,y)がその両軸方向に関して相関関係を有しない光路差関数ρ(x,y)を一般式として求め、求められた光路差関数をテイラー展開し、テイラー展開により得られたテイラー展開式の各項の係数CNを求め、当該各係数をコンピュータプログラムに与える多項式の各係数としてコンピュータプログラムに入力し、当該プログラムの実行により、マスク条件を求め、求められた条件のマスクを用いたフォトリソグラフィ法により、所望の回折光学素子10を製作する。
請求項（抜粋）：
多項式で表現された光路差関数における前記多項式の各係数を与えることにより、前記光路差関数で特定される形状の回折光学素子をフォトリソグラフィ法で形成するために必要なマスクの条件を求めるコンピュータプログラムの実行によってマスクの条件を求める工程を含む、回折光学素子の製造方法であって、回折光学素子の光軸と直角な平面上のX軸方向およびY軸方向に関する光路差関数ρ(x,y)がX軸方向およびY軸方向に関して相関関係を有しない光学特性を満たす光路差関数を一般式として求めること、求められた光路差関数をテイラー展開し、その近似式を求めること、テイラー展開により得られたテイラー展開式の各項の係数を前記コンピュータプログラムに与える前記多項式の各係数として前記コンピュータプログラムに入力し、当該プログラムの実行により、マスク条件を求めること、求められた条件のマスクを製作し、該マスクを用いたフォトリソグラフィ法により、回折光学素子を製作することを含む、回折光学素子の製造方法。
IPC (4件)：
G02B 5/18 ,  G02B 5/32 ,  G02B 13/08 ,  G06F 17/50
FI (4件)：
G02B 5/18 ,  G02B 5/32 ,  G02B 13/08 ,  G06F 15/60 680 A
Fターム (13件)：
2H049AA04 ,  2H049AA26 ,  2H049AA33 ,  2H049AA37 ,  2H049AA48 ,  2H049AA64 ,  2H049CA17 ,  2H049CA28 ,  2H087LA28 ,  2H087RA46 ,  5B046AA08 ,  5B046AA09 ,  5B046BA08
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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