特許
J-GLOBAL ID：200903008520478473

酸解離性基含有重合体および感放射線性樹脂組成物

発明者：
米田 英司

米田 英司 について

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中村 敦

中村 敦 について

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志水 誠

志水 誠 について

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王 勇

王 勇 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


代理人 (1件)： 和気 操
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-375311
公開番号（公開出願番号）：特開2005-139250
出願日： 2003年11月05日
公開日（公表日）： 2005年06月02日
要約：
【課題】 放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、解像性能が高く、パターンのラインエッジラフネスが小さく、並びにパターンの粗密依存性が小さい。【解決手段】 本発明の酸解離性基含有重合体は、式(1)で表される繰り返し単位および式(2)で表される繰り返し単位から選ばれた少なくとも一つの繰り返し単位と、酸解離性基を有する繰り返し単位とを含有する酸解離性基含有重合体であって、該重合体が式(X-1)で表される連鎖移動剤を用いるリビングラジカル重合により重合されてなる。【化1】【化2】 式(X-1)において、Raは、置換または非置換の炭化水素基を表し、Zは置換または非置換のヘテロ原子を含む基を表す。【選択図】 無
請求項（抜粋）：
式(1)で表される繰り返し単位と、酸解離性基を有する繰り返し単位(ii)とを含有する酸解離性基含有重合体であって、該重合体が式(X-1)で表される連鎖移動剤を用いるリビングラジカル重合により重合されてなることを特徴とする酸解離性基含有重合体。
IPC (5件)：
C08F2/38 ,  C08F220/16 ,  C08F220/28 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (5件)：
C08F2/38 ,  C08F220/16 ,  C08F220/28 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (36件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4J011NA05 ,  4J011NA26 ,  4J011NB04 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15Q ,  4J100BC07P ,  4J100BC07Q ,  4J100BC08P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC12P ,  4J100BC53Q ,  4J100BD10P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100DA01 ,  4J100DA61 ,  4J100DA65 ,  4J100FA03 ,  4J100FA04 ,  4J100JA37
引用特許：
出願人引用 (6件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)

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