特許
J-GLOBAL ID：200903008526367134
リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 山本 貴和
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-057450
公開番号（公開出願番号）：特開2006-245590
出願日： 2006年03月03日
公開日（公表日）： 2006年09月14日
要約：
【課題】リソグラフィ装置の投影システムの最終レンズ素子と基板の間のスペースを液体で満たす浸漬リソグラフィ装置で、この最終素子に凹面レンズを使うと開口数を大きくできるが、気泡がこの最終素子の下に閉込められ、投影した像を乱すおそれがある。この気泡の滞留をなくした装置を提供する。【解決手段】投影システムPLの最終素子として凹面屈折レンズ30をその光軸OAを外して使うので、このレンズの下面の最高点が像界EF内になく、従って浸漬液11中の気泡が像界EF内に留まることはない。また、レンズ30の使わない部分を切り落し、浸漬液11をレンズ30の上部から供給することができ、滑らかな流を得て、レンズ30の投影ビームPBに近い、最も熱い部分を冷却することができる。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
パターン化した放射線ビームを基板(W)の目標部分上に投影するように構成した投影システムおよび該投影システムの最終素子と基板の間のスペースに液体を供給するための液体供給システムを有するリソグラフィ投影装置において、
前記投影システムの最終素子が凹面屈折レンズであり、
前記投影システムがパターン化した放射線ビームを投影システムの光軸を外して配置した像界(EF)に投影するように配置してある装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
5F046BA04
, 5F046CB01
, 5F046CB12
, 5F046CB25
, 5F046CB26
, 5F046CC01
, 5F046DA01
, 5F046DA07
, 5F046DA12
